Occasion KARL SUSS / MICROTEC RC 8 #9365908 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC RC 8 est un équipement de photorésistance qui effectue des gravures critiques et des processus de lithographie sur une variété de substrats de films et de photomasques. Ce système utilise des procédés photographiques rigoureux pour contourner des motifs sur des couches minces qui peuvent être appliquées à une variété de substrats pour des applications de circuits intégrés. En particulier, il peut manipuler des substrats jusqu'à 400 mm de diamètre et peut être équipé pour traiter une variété de matériaux de résistance spécialisés tels que AZ, GX1, GX2 et PFE. L'unité utilise une machine d'alignement très précise afin d'assurer un enregistrement serré des motifs sur les substrats ; comprenant un outil d'autofocus en 16 points qui peut être utilisé pour aider au positionnement et à la mise en forme de motifs de résistance sur des surfaces de substrat complexes. En outre, l'actif est conçu pour utiliser deux niveaux de mouvement de substrat qui aident à fournir la précision pour l'enregistrement sur le terrain. Le modèle permet une lithographie laser en écriture directe qui est particulièrement utile pour créer rapidement des motifs compliqués avec une grande précision. De plus, il est optimisé pour les processus de cendrage et de gravure agressifs tels que la gravure sèche, la gravure humide et la gravure ionique réactive profonde. En plus de la lithographie laser en écriture directe, l'équipement est capable de travailler avec une grande variété de photomasques qui peuvent être utilisés pour exposer des motifs directement aux surfaces du substrat. Cela permet de créer des motifs plus détaillés et plus complexes avec une plus grande précision que la lithographie laser directe. MICROTEC RC 8 est capable de processus à la fois performants et peu coûteux. Il est conçu pour des charges électriques et thermiques faibles, c'est-à-dire que KARL SUSS RC 8 peut être utilisé pour le prototypage rapide et la production de masse efficace de modèles de haute qualité et de détails complexes. De plus, sa précision de 5µm permet de reproduire des modèles avec des tolérances proches qui restent cohérentes sur plusieurs cycles d'utilisation. Globalement, le RC8 est conçu pour permettre des processus de gravure et de lithographie photorésistantes avec une précision complexe pour diverses applications de circuits intégrés. Il est capable d'exposer des motifs à la surface du substrat avec un enregistrement précis, ce qui le rend utile pour la production en masse de motifs complexes de qualité constante.