Occasion KYOWA RLE-52ES #9393172 à vendre en France

KYOWA RLE-52ES est un équipement de lithographie photorésistante qui utilise une source lumineuse pour projeter une image ou une bobine sur un substrat à diverses fins d'impression et de fabrication. Ce système est adapté à un large éventail d'applications exigeantes, y compris la fabrication de PCB et l'optique. Cet outil de haute précision peut soumettre des motifs à une résolution de niveau sub-micron pour une production précise et précise. De plus, l'unité offre une résolution et une uniformité supérieures grâce à ses capacités d'éclairage rapides et constantes combinées à une technologie de balayage avancée. RLE-52ES source lumineuse a été déterminée comme étant un rendement maximal et compatible avec les fibres optiques. Il se compose de deux lampes à arc avec une alimentation à fort courant, tandis qu'une autre source d'énergie fournit de la lumière pour la section d'éclairage uniforme. Des options d'éclairage supplémentaires comme les UV pour la sensibilité à la longueur d'onde permettent une gamme plus large de possibilités de conception de motifs. La machine est équipée d'une commande d'étage automatisée avec une grande zone de balayage pour une grande variété de substrats. Une résolution, une précision et une répétabilité améliorées améliorent les performances et l'efficacité. Le centre de la zone d'exposition est aligné par l'axe X, Y et θ et est facilement réglable grâce à un outil avancé de correction automatique. La résine photosensible dans KYOWA RLE-52ES est très importante car elle permet le temps d'exposition approprié nécessaire à la formation de motifs. Les systèmes d'alignement virtuels de l'actif assurent des alignements précis en comparant le profil central des zones d'exposition à la conception exposée, garantissant ainsi un processus parfaitement précis. Le modèle d'alignement peut également réduire la survenue de désalignements au cours du processus, augmenter le rendement et optimiser la performance du processus. En tant que composante importante de la photolithographie, les développeurs doivent également tenir compte des niveaux de défauts à l'intérieur des substrats. Le RHS-SAF51 et ses systèmes complémentaires détectent et classent les défauts tandis que les sources lumineuses et les fonctions automatisées de l'équipement peuvent contrôler la détectabilité des défauts dans les substrats. En outre, RLE-52ES dispose d'options optimisées de création de recettes pour améliorer le contrôle des défauts et la détermination exacte des zones de dimension critique (CD). Dans l'ensemble, ce système fournit à ses utilisateurs un moyen de lithographie polyvalent et précis pour une gamme d'utilisations. Sa résolution de haute qualité, ses fonctionnalités automatisées et ses composants de contrôle des défauts permettent une large gamme d'applications et un processus de fabrication rapide et précis.