Occasion LAURELL EDC-650HZB-23NPPB #9397753 à vendre en France

L'équipement de photorésistance LAURELL EDC-650HZB-23NPPB est une machine avancée conçue pour développer des photomasques de haute qualité utilisés dans l'industrie de la microélectronique. Cette machine peut créer des masques avec une très haute résolution et une excellente précision de la couche de ligne, parfait pour la fabrication avancée de puces. LAURELL EDC 650 HZB 23 NPPB utilise la technologie de traitement photorésist de pointe avec son système automatique de manipulation des substrats et de contrôle des processus en boucle fermée. La conception avancée permet de s'assurer que chaque masque possède des caractéristiques uniformes, d'excellents motifs et des largeurs de ligne uniformes. Cette unité fournit également une excellente linéarité et une faible diffusion pour des processus cohérents. La machine photorésist dispose d'une cassette chauffante à double zone qui offre un débit plus élevé et une meilleure précision lors de la manipulation de plusieurs substrats. L'utilisation du transport bidirectionnel permet de s'assurer que la résistance est répartie uniformément sur la surface du substrat. La cassette comporte également une série de capteurs de pression permettant de mesurer efficacement l'épaisseur et l'étalement de la couche de résine. En outre, EDC-650HZB-23NPPB outil de photorésistance dispose d'une caméra haute résolution pour l'inspection des masques. Cette caméra est capable de détecter de petits défauts, tels que des particules et des rayures, de sorte que les défauts peuvent être évités. Il fournit également une rétroaction d'imagerie en temps réel à l'utilisateur pour assurer la précision dans le développement des photomasques. Pour un contrôle plus complet des processus, l'actif dispose d'une suite logicielle complète. Ce logiciel permet non seulement d'automatiser les processus de masquage, mais aussi d'accéder facilement à toutes les données pertinentes nécessaires à l'optimisation de leurs processus. En conclusion, EDC 650 HZB 23 NPPB photoresist modèle est un excellent choix pour l'industrie de la microélectronique. Avec sa technologie avancée de traitement des photorésistances, sa caméra haute résolution et sa suite logicielle efficace, c'est une machine idéale pour développer des photomasques avancés pour la fabrication de puces.