Occasion LAURELL WS-400B-6NPP/LITE #293629512 à vendre en France

LAURELL WS-400B-6NPP/LITE est un équipement de photorésistance entièrement automatisé idéal pour les applications de traitement par voie humide dans les industries du semi-conducteur, du MEMS/NEMS, de l'électronique et de l'instrumentation médicale. LAURELL WS-400B-6NPP-LITE a une conception de réservoir unique qui le rend parfait pour la production de pièces à haut rendement et à haut débit en petits volumes, comme les micropuces et les appareils MEMS. Le système dispose d'une plate-forme à inclinaison réelle à profondeur variable de 600 mm x 400 mm et de réservoirs de solutions réglables à profondeur variable avec une plage de température réglable entre 20 et 70 degrés Celsius. L'unité dispose également d'un couvercle intégré qui maintient la solution de bain de traitement enfermée et d'une porte verrouillable qui assure la sécurité des bains de traitement. WS-400B-6NPP/LITE photorésist offre une variété de fonctionnalités pour la flexibilité dans le contrôle des processus. L'outil a des recettes automatisées pré-programmées et modifiables et il peut être configuré avec plusieurs options de calendrier de cycle, processus variables et étape par étape pour optimiser l'exactitude et la reproductibilité des résultats de processus. L'outil de contrôle ergonomique simplifie l'accès et le fonctionnement, permettant aux utilisateurs d'accéder rapidement et facilement aux recettes automatisées et de gérer tous les aspects du modèle photorésist, y compris la température, la pression, le débit de gaz et le temps de traitement. Les contrôles avancés, tels qu'un collecteur de lavage multi-flux, contrôlent les concentrations chimiques pour assurer la précision et la reproductibilité des revêtements. En outre, une douche à main et un obturateur automatique sont inclus pour le nettoyage complet et le séchage des pièces. Le moniteur tactile permet une surveillance pratique de tous les paramètres du processus, y compris la température, la pression et le temps. WS-400B-6NPP/LITE Le matériel photorésist fournit une méthode fiable et rentable pour le traitement à haut rendement et à haut débit de très petites pièces. Il est très précis, efficace et offre des résultats reproductibles avec de faibles exigences d'entretien. Le système de contrôle polyvalent permet un large éventail d'étapes et de conditions de processus pour répondre à presque toutes les exigences de production. L'unité est idéale pour la production de composants MEMS micro-électroniques et de précision en volume.