Occasion LAURELL WS-400B-6NPP #293822285 à vendre en France
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LAURELL WS-400B-6NPP est un équipement de traitement de photorésistance de référence qui convient à de nombreuses applications de traitement électro-optique, telles que le dépôt de couches minces, la gravure, le laminage isolant et le revêtement de photorésist. Ce système tout-en-un avancé est conçu pour fournir aux utilisateurs des performances supérieures et un contrôle de processus serré. Il présente une plate-forme contrôlée par la température présentée, un puissant 6kV la source de pouvoir et un enlumineur diffus de 4 zones. La plate-forme à température contrôlée dispose d'une grande chambre de traitement qui peut atteindre des températures allant jusqu'à 80 ° C, et peut être réglée à une précision de 1 ° pour une manipulation précise des photomasques délicats et des couches de résistance. L'illuminateur diffus à 4 zones peut être réglé pour atteindre des niveaux d'éclairage de 25 à 75 W/cm2 tout en fournissant un éclairage uniforme sur toute la surface du photomasque ou de la plaquette. Ceci permet une exposition lithographique plus uniforme et cohérente de la couche de résine. De plus, l'illuminateur peut être ajusté par incréments minutes pour affiner le processus de lithographie. La source d'énergie en WS-400B-6NPP a une puissance maximale de 6kV. Ceci permet le dépôt de couches minces conformes ou la formation de motifs de gravure bien définis sur la plaquette ou le photomasque, tout en conservant un contrôle serré des procédés. Avec sa 6kV source d'énergie, LAURELL WS-400B-6NPP peut être utilisé pour graver des tranchées profondes et des caractéristiques afin de produire avec précision des structures telles que des canaux microfluidiques. De plus, l'unité est équipée d'une machine de contrôle de température (LITC) par laser qui mesure la température précise de la résine photosensible pendant le processus lithographique afin de minimiser la dérive thermique et d'assurer des résultats de lithographie optimaux. Est également inclus un outil automatisé de revêtement en résine qui permet une distribution uniforme de la couche de résine sur la plaquette ou le masque. Cela garantit des résultats précis et cohérents, et minimise les variations dues à la distribution manuelle de la résistance. Dans l'ensemble, WS-400B-6NPP est un atout avancé et polyvalent qui convient à un large éventail d'applications de traitement de différentes résines photosensibles. Grâce à son contrôle précis de la température, à sa source d'énergie 6kV, à son illuminateur diffus à 4 zones et à son modèle automatisé de revêtement de résistance, les utilisateurs peuvent obtenir des résultats de lithographie précis et cohérents tout en réalisant un contrôle serré des processus.
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