Occasion LEYBOLD APS 1104 #9092775 à vendre en France

LEYBOLD APS 1104 est un équipement de photorésistance spécialement conçu pour fournir aux utilisateurs un flux de travail complet et précis pour les processus de lithographie. Le système est composé d'un ensemble d'outils qui permettent aux utilisateurs de modéliser avec précision l'exposition et de développer des processus de lithographie dans un cadre quelconque. Au cœur, l'APS 1104 utilise un procédé en 4 étapes pour préparer les surfaces des plaquettes. Tout d'abord, la plaquette est exposée à une source lumineuse capable de générer à la fois des rayons ultraviolets (UV) et des rayons ultraviolets profonds (DUV). Cette exposition durcit et sensibilise la résine photosensible. D'autre part, la résine photosensible est développée dans un bain de révélateur pour exposer le substrat sous-jacent. Troisièmement, la plaquette est soumise à un processus de gravure humide pour définir le profil d'exposition. Enfin, la plaquette est soumise à une gravure de post-traitement, au cours de laquelle le motif exposé est converti en profil 3D désiré. L'unité dispose également d'un certain nombre de caractéristiques impressionnantes, comme sa machine d'imagerie optique avancée, qui peut détecter des non-linéarités de champ lointain aussi petit que 10nm. Cet outil aide à réduire la contamination de la résine photosensible et travaille avec l'actif de mouvement pour ajuster le foyer de la lumière afin d'exposer avec précision l'ensemble du champ de vision. LEYBOLD APS 1104 peut également traiter jusqu'à 1000 plaquettes par heure, garantissant que les temps de développement sont un maximum de 20 minutes par motif. Son fonctionnement à basse température, couplé à son régulateur de température numérique et à son thermocouple, garantit que la couche de résine photosensible n'est pas endommagée au cours du processus. L'APS 1104 a une grande précision, ce qui est rendu possible en partie par son contrôleur pas à pas de haute précision et son transducteur piézoélectrique. Le modèle dispose également d'une interface utilisateur intuitive, ainsi que d'une variété d'outils de débogage, permettant aux utilisateurs de modéliser rapidement et facilement les processus de photorésistance. Dans l'ensemble, LEYBOLD APS 1104 est un excellent choix pour un équipement de photorésistance. Il est très précis et efficace, ce qui en fait un choix parfait pour le développement des processus de lithographie.