Occasion LEYBOLD APS 1104 #9192878 à vendre en France

LEYBOLD APS 1104 Photoresist Processing Equipment est un système multifonctionnel entièrement automatisé utilisé dans les processus photolithographiques. Il est spécifiquement conçu pour manipuler et développer différents types de photorésistes avec des résultats optimaux. L'unité APS 1104 offre un contrôle complet de tous les paramètres qui influencent le produit final, tels que la température, l'humidité, le point de rosée, la concentration en tensioactif et le temps d'exposition. LEYBOLD APS 1104 se compose d'une chambre de processus, d'une unité de contrôle pour la mise en place et le contrôle des paramètres du processus, et d'un réservoir de développement. La machine est équipée de deux électrovannes indépendantes, l'une pour le solvant et l'autre pour le tensioactif, permettant d'utiliser à tout moment des rapports et concentrations différents des deux liquides. Le port de chargement contient un capteur de température très précis, qui permet un contrôle précis de la température à l'intérieur de la chambre de procédé. Ceci est important car les propriétés de la résine photosensible peuvent être significativement modifiées en raison des changements de température et, par conséquent, le contrôle de la température est essentiel pour obtenir des résultats cohérents et reproductibles. L'enceinte contient également un outil de distribution de solvant et de tensioactif. L'actif est conçu pour fournir une distribution variable et précise de solvant et de tensioactif, permettant à l'utilisateur de contrôler le mélange en fonction de ses besoins spécifiques. Après chargement, la chambre est évacuée, et un vide est généré par une pompe réglable et contrôlée sous pression. En contrôlant le vide dans l'enceinte, il est possible de répartir uniformément le solvant mélangé et le tensioactif dans toute l'enceinte. L'utilisateur peut configurer le temps d'exposition, avec un maximum de 99,99 secondes, et la longueur d'onde d'exposition. La longueur d'onde d'exposition peut être choisie en fonction de la résine photosensible spécifique utilisée et des résultats souhaités. Le modèle comprend également une plaque chauffante avec température réglable. Cela peut être utilisé pour générer de la chaleur, ce qui aide à accélérer le processus de durcissement de la résine photosensible. La plaque chaude dispose également d'un équipement de refroidissement à air forcé qui empêche les points chauds pendant le développement. Enfin, l'APS 1104 comprend un réservoir de développement, équipé d'un agitateur couplé magnétiquement. Ceci assure un développement homogène et cohérent de la résine photosensible. Après développement, la résine photosensible est rincée et séchée à l'aide d'une buse de milieu programmable et réglable. Cela permet de s'assurer que la résine photosensible est séchée sans surchauffe ou sursèchement. LEYBOLD APS 1104 est donc idéal pour la production à grande échelle de produits de photolithographie.