Occasion LEYBOLD APS 1104 #9226191 à vendre en France

LEYBOLD APS 1104 est un équipement de photorésistance conçu pour la lithographie et les procédés de photolithographie de haute précision. Elle est particulièrement adaptée à une utilisation dans la fabrication de dispositifs microélectroniques et la nanotechnologie. Le système de photorésist est constitué d'une source lumineuse et optique, d'un photomasque et d'une station d'application et de durcissement de la photorésistance. L'unité photorésist dispose d'une source lumineuse personnalisable, qui consiste en une source lumineuse couplée à une machine optique réglable. La source lumineuse est conçue pour fournir une large capacité de luminosité homogène avec un foyer optique réglable et une taille de spot uniforme. Ceci assure une exposition uniforme optimale des zones photorésistantes. Un obturateur intégré et un contrôle d'intensité permettent des expositions multiples avec une intensité lumineuse variable pour le raffinement des caractéristiques de conception. L'outil photomasque est un composant essentiel de la station d'impression. Il est utilisé pour l'alignement et l'enregistrement pendant le processus d'impression et d'exposition. L'outil photomasque est réglable en fonction des angles de rotation. En outre, il aide à obtenir une couverture uniforme sur le substrat grâce à un enregistrement très précis et affiné. Le poste de photorésistance est conçu pour appliquer et durcir la photorésist de manière uniforme. Il comporte une buse intégrée de distribution de spin et de roulis qui assure une couverture uniforme du substrat et l'application de motifs successifs. Une station de durcissement permet une température et une durée prédéfinies pour le durcissement des résines photosensibles. L'APS 1104 dispose également d'une station de lavage et de séchage intégrée pour l'élimination des résines photosensibles et le développement de structures sur le substrat. Ce poste comprend un outil de brosse, idéal pour nettoyer la surface du substrat avant le dépôt de la résine photosensible. Dans l'ensemble, LEYBOLD APS 1104 est un excellent actif de photorésistance pour la recherche et l'application en microélectronique et en nanotechnologie. Ses sources lumineuses et optiques réglables, son photomasque et sa station de revêtement photorésist permettent un contrôle précis et une exposition uniforme des zones photorésistantes. Le modèle est également équipé d'une station de lavage et de séchage pour la préparation et le développement de structures sur le substrat.