Occasion LEYBOLD APS 904 #9240499 à vendre en France

LEYBOLD APS 904 est un équipement de photorésistance conçu pour exposer des matériaux photosensibles sur des substrats à des fins de lithographie et de fabrication de dispositifs. Il offre des caractéristiques de résolution de sous-microns, une grande précision et des profils de bords propres à l'aide d'un procédé de résistance au chrome, à l'iridium ou au nickel. APS 904 est un système de pointe qui utilise la technologie d'imagerie numérique pour des applications de lithographie. Cette unité peut imprimer des images sur des substrats aussi petits que 0,3µm. Pour atteindre cette résolution, la machine utilise une source optique qui traverse un séparateur de faisceau et sur un outil de projection optique à plusieurs niveaux pour maintenir un faisceau de sortie perpendiculaire. L'imagerie est réalisée en focalisant numériquement le faisceau puis en le faisant passer à travers une plaque de lentilles et de miroirs contrôlée par ordinateur. Ceux-ci sont agencés pour former une image virtuelle de l'objet projeté sur le substrat. Le LEYBOLD APS 904 est doté d'une double résistance photosensible en ligne. Ce modèle utilise un verre spécial ultra-faible absorbance avec une densité optique supérieure à 1,45 pour réduire efficacement les niveaux d'exposition « de fond ». L'équipement a un taux de répétition variable qui peut être ajusté de 0,5 à 1 seconde en 0,1 seconde d'incréments. Cela permet une impression lithographique précise et augmente le débit. De plus, l'APS 904 dispose d'un système semi-automatisé de détection de particules aéroportées. Cette unité comporte l'utilisation de lumière artificielle, permettant de diagnostiquer la taille et la position des particules en suspension dans l'air. La machine peut être programmée pour arrêter l'outil de photorésistance si des particules aéroportées excessives sont détectées, augmentant ainsi la sécurité du processus de lithographie. La LEYBOLD APS 904 est également équipée d'un atout à double étage et à faible dépression pour contrôler la résistance au revêtement et à l'adhérence. Le modèle à vide à deux étages se compose d'une pompe à rugosité et d'une pompe moléculaire fonctionnant en séquence. Ceci assure l'élimination efficace des gaz piégés, permettant un environnement de vide remarquablement propre. Dans l'ensemble, APS 904 est un équipement de photorésistance fiable et précis, capable de produire des images haute résolution de manière sûre et efficace. Son utilisation innovante de la technologie et ses caractéristiques uniques permettent d'adapter facilement le système à différentes applications de lithographie.