Occasion LEYBOLD OPTICS CCS 250 #9402418 à vendre en France

LEYBOLD OPTICS CCS 250 est un équipement photorésist de premier plan mondial conçu pour le développement rapide et précis des processus de photorésistance. La technologie photorésist implique l'exposition à la lumière pour créer des motifs dans le matériau du substrat, couramment utilisé dans la fabrication de la microélectronique et d'autres composants sensibles. Le CCS 250 intègre une technologie avancée d'exposition à la lumière et est équipé d'une série de lentilles et d'autres optiques pour le développement exigeant de procédés de photorésistance. LEYBOLD OPTICS CCS 250 offre une vitesse, une précision et une résolution inégalées, lui permettant de développer rapidement et avec précision des motifs photorésistants avec un très haut degré de répétabilité. Le système est également optimisé pour le développement de surfaces commutables à bas seuil et d'impressions magnétiques, ce qui en fait un excellent choix pour la fabrication de composants ultra-précis. CCS 250 offre également des capacités d'automatisation sophistiquées, permettant aux utilisateurs de mettre en place un processus rapidement et facilement. L'unité est connectée à une interface informatique qui est capable de gérer les paramètres de configuration, fournissant aux utilisateurs un aperçu complet du processus de développement. Le logiciel permet d'optimiser facilement des paramètres tels que le temps d'exposition, l'intensité, la focalisation et la vitesse d'obturation, ce qui permet un traitement rapide par lots des motifs photorésistants. La machine intègre également un sous-système d'imagerie très précis et efficace, permettant la capture rapide de motifs à partir d'une large gamme de substrats. Le sous-système d'imagerie est connecté à un analyseur d'images, permettant un débogage de motifs de haut niveau pour s'assurer que tous les processus répondent aux exigences exigeantes du client. LEYBOLD OPTICS CCS 250 est un outil de photorésistance extrêmement fiable et performant. Il offre aux utilisateurs un moyen rapide et efficace de développer des processus photorésistants avec un degré élevé de précision, de répétabilité et de résolution. Les capacités d'imagerie sophistiquées et de contrôle logiciel se combinent pour en faire un excellent choix pour ceux qui recherchent l'ultime performance en photorésist.