Occasion LEYBOLD OPTICS MCS 480 #9394822 à vendre en France

LEYBOLD OPTICS MCS 480 est un équipement de photorésistance conçu pour l'exposition rapide des photorésistes aux rayons ultraviolets. Le système est composé de deux composants principaux, le module source de lampe et le module de traitement de la résistance photo. Le module source de la lampe est composé de quatre lampes à court arc à vapeur de mercure de 300 watts, chacune avec son propre filtre optique pour assurer l'intensité et la longueur d'onde de la lumière UV. Les lampes sont enfermées dans un réflecteur en quartz refroidi à l'eau avec une chambre réglable qui est conçu pour aider à réduire les temps de chauffage et de refroidissement du matériau photorésist. L'enceinte peut également être programmée en rotation entre les angles pour assurer une exposition uniforme à la résine photosensible sur un substrat. Le module de traitement de la résine photosensible est constitué d'une chambre destinée à fournir une atmosphère uniforme pour un contrôle précis de l'environnement lors de l'exposition. La chambre contient une unité de soufflage pour contrôler la température et l'humidité et est reliée aux quatre lampes du module source de la lampe. La chambre dispose également d'obturateurs réglables pour contrôler la quantité de lumière UV qui atteint le substrat. Le MCS 480 est capable de traiter des substrats jusqu'à 25 po de diamètre et 0,5 po d'épaisseur à un taux d'exposition jusqu'à 400nm/seconde. Il dispose d'une interface PLC qui permet aux utilisateurs de contrôler précisément l'intensité et la longueur d'onde de la lumière UV ainsi que le moment du processus d'exposition et de refroidissement. Il dispose également d'un contrôleur de processus intégré qui peut stocker jusqu'à 200 recettes d'exposition individuelles pour une configuration rapide et facile. LEYBOLD OPTICS MCS 480 est une machine photorésist rentable et performante qui offre aux utilisateurs une exposition rapide, répétable et précise qui est requise dans les processus de photolithographie de précision d'aujourd'hui. L'outil est idéal pour des applications telles que la fabrication de masques, la lithographie en écriture directe et l'imagerie directe pour la production de plaquettes semi-conductrices, de dispositifs optoélectroniques et de cartes de circuits imprimés.