Occasion LITHOTECH CB-50 / D-50 #293605802 à vendre en France

LITHOTECH CB-50/ D-50 Photoresist Equipment est un système clé en main conçu pour le développement de motifs de microcircuit haute résolution sur une grande variété de matériaux semi-conducteurs. Il est exceptionnellement facile à installer et à utiliser, ce qui le rend idéal pour une utilisation dans un large éventail d'applications. L'unité utilise un moteur pas à pas commandé par ordinateur pour positionner avec précision un masque de photorésist sur un substrat en matériau semi-conducteur. Un contrôleur programmable contrôle le déplacement du masque, permettant un positionnement et un alignement précis du masque sur le substrat. La machine est également équipée d'un outil d'imagerie numérique intégré pour assurer une exposition précise et cohérente du substrat à la résine photosensible. L'actif est conçu pour fonctionner en mode haute résolution, fournissant une excellente résolution des motifs qui sont produits. Le modèle peut atteindre des résolutions de 30 microns ou moins, assurant des résultats de la plus haute qualité dans une variété d'applications de semi-conducteurs. La BANDE CB 50 / l'équipement de D-50 utilise deux catégories de se photoopposent au matériel : la particule en métal photorésiste et organique photorésistent. Le photorésist métal-particules est utilisé pour la production d'interconnexions critiques et le traçage des métaux. Le photorésist organique est utilisé pour la production de motifs de lignes complexes, de photomasques et d'autres motifs à haute résolution. Outre le système d'imagerie intégré, l'unité comprend également une gamme d'accessoires différents pour l'application précise de la résine photosensible sur le substrat. Ceci comprend une unité de pulvérisation fixe pour l'application uniforme de la photorésist, un enrobeur de spin pour étaler uniformément la photorésist sur le substrat, et un pré-nettoyant de plaquette pour assurer l'élimination des poussières ou particules qui pourraient compromettre les résultats. LITHOTECH CB-50/ D-50 dispose également de l'exposition automatisée et du développement de la photorésist. Cela garantit que tout le processus se déroule dans un environnement exempt de contamination, ce qui peut nuire aux performances et à la précision de la machine photorésistante. CB-50/ D-50 outil est un actif photorésist extrêmement fiable et polyvalent qui est conçu pour fournir des résultats extrêmement précis. Sa conception intuitive et ses fonctionnalités avancées en font un choix idéal pour une large gamme d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs.