Occasion LITHOTECH DB-50-W #293605803 à vendre en France

LITHOTECH DB-50-W est un équipement de haute résistance photosensible conçu pour la lithographie avancée et d'autres procédés avancés utilisés dans la fabrication de micro-électroniques. C'est un système complet qui se compose de plusieurs composantes. Ces composants ont été soigneusement sélectionnés et formulés pour produire une protection solide et fiable contre les produits chimiques lithographiques et les rayonnements provenant des systèmes d'exposition utilisés dans la production de puces. L'unité comprend un film de résine photosensible qui sert de couche de protection sur le substrat lors de l'exposition. Le film est déposé sur le substrat puis exposé à une lumière ou à un autre faisceau de rayonnement. Lors de l'exposition, ce film est durci et peut fournir une protection fiable contre les produits chimiques lithographiques et l'exposition aux rayonnements ou à d'autres formes d'énergie pendant la production de puces. La machine comprend également une solution de révélateur qui est utilisée pour retirer la résine photosensible durcie du substrat une fois le processus d'exposition terminé. Cette solution de développement peut être chauffée ou traitée pour rendre le processus de retrait plus facile et plus rapide. La solution peut également être utilisée pour protéger les composants sensibles sur le substrat pendant le processus d'exposition. L'outil est doté d'une gamme de composants supplémentaires qui aident à optimiser l'actif photorésist pour fournir la protection optimale. Ces composants comprennent des agents antistatiques, des agents de blocage de la lumière et des polymères transparents qui protègent le substrat des éléments pendant le processus d'exposition. Le modèle comprend également des agents chimiques destinés à améliorer la sécurité du substrat en se protégeant contre les effets de la réaction chimique. Les produits chimiques sont formulés pour s'assurer qu'ils restent efficaces même dans des environnements hostiles et ne réagiront pas avec les composants sur le substrat pendant le processus. L'équipement global est conçu pour offrir une protection maximale contre l'exposition à la fois aux produits chimiques et aux rayonnements, tout en restant rentable et facilement déployable. Le système offre également un haut degré de flexibilité, avec la capacité de personnaliser l'unité de photorésistance aux besoins spécifiques de la production de puce et peut également être utilisé pour affiner la protection de la photorésist pour le processus de production.