Occasion M&R AGS-1008SDFT #9238807 à vendre en France

M&R AGS-1008SDFT est un équipement de photorésistance de pointe créé dans le but de simplifier la photolithographie. Il est idéal pour la fabrication et le développement de couches minces texturées, de matériaux optiques et de composants microélectroniques. AGS-1008SDFT se compose d'une série de composants dont un photomasker, un système d'exposition et un développeur. Le photomasker est conçu pour être facile à utiliser et permet à l'utilisateur de définir avec précision la géométrie du motif. L'unité d'exposition utilise une lumière de haute intensité, assurant une exposition uniforme et cohérente du matériau de résistance. Enfin, le développeur permet à l'utilisateur de graver et de façonner les matériaux de manière rapide et efficace. La machine a été conçue pour offrir des performances supérieures et un débit amélioré sur d'autres systèmes de photorésistance. L'outil a une résolution d'exposition maximale de 0,5 microns et peut développer des couches aussi minces que 0,5 microns. En outre, l'actif peut créer des modèles à des ratios d'aspect variables, permettant des caractéristiques de conception détaillées et compliquées. M&R AGS-1008SDFT peut prendre en charge un large éventail de sources lumineuses, y compris les sources lumineuses ultraviolettes et visibles. AGS-1008SDFT a été conçu pour être convivial avec une interface graphique intuitive et est facilement portable. Pour garantir des résultats optimaux, le modèle dispose de composants de haute précision et peut être calibré pour des temps d'exposition précis. L'équipement offre également des fonctionnalités intégrées pour la gestion des données, contribuant à réduire les erreurs de traitement. Dans l'ensemble, M&R AGS-1008SDFT est un choix idéal pour la photolithographie dans la fabrication moderne. Ses performances, ses caractéristiques et sa portabilité supérieures offrent des solutions de pointe pour le développement de couches minces, de matériaux optiques et de composants microélectroniques.