Occasion M-TECH 4300S #293664059 à vendre en France

M-TECH 4300S est un équipement de photorésistance haut de gamme particulièrement adapté aux substrats de taille de plaquettes. Le système offre un certain nombre de caractéristiques qui lui permettent de répondre aux besoins exigeants des procédés modernes de fabrication de plaquettes. L'unité est constituée d'un module d'application de résistance, d'un module de planarisation, d'un module d'exposition, d'un module de post-exposition, d'un module de développement et d'un module de dérivation. Tous ces modules sont intégrés pour former une machine complète. Le module d'application de résist de 4300S est utilisé pour appliquer de la photorésist sur des substrats de taille de tranche. La résine est distribuée sur le substrat et uniformément répartie avec un puissant moteur de filage. Ceci assure une couverture uniforme de la résine en surface. Le flux contrôlé de résistance entre le substrat et la buse de distribution est maintenu par une séparation buse-cavité de haute précision. Le module de planarisation contient une surface de planarisation contrôlée de précision. Cette surface est utilisée pour lisser avec précision et précision des surfaces inégales du substrat créé par le module d'application de résine. La surface lisse est essentielle pour la lithographie par contact et la définition des caractéristiques du processus de photolithographie. Le module d'exposition de l'outil utilise une optique avancée pour assurer une exposition précise et uniforme. L'optique offre une excellente homogénéité et un rapport de contraste élevé lors du transfert de l'image sur le substrat. L'optique est équipée d'autofocus et de capacités de reconnaissance d'image pour assurer une exposition précise à haute précision. Le module post-exposition de l'actif assure une gravure uniforme, précise et complète du substrat gravé. Ceci est obtenu grâce à l'utilisation des algorithmes avancés de correction de post exposition, qui contrôlent précisément l'alignement du masque, la dose d'exposition et la gravure. Le module de développement est utilisé pour retirer la résine photosensible exposée du substrat. Ceci est réalisé de manière automatisée avec une grande précision à l'aide d'algorithmes avancés de reconnaissance d'images. Le module spin-off est utilisé pour rincer la résine photosensible restante du substrat. Ceci est réalisé en filant la plaquette à grande vitesse et en assurant une utilisation maximale de la chimie de rinçage et un rinçage complet de la résine photosensible. Globalement, M-TECH 4300S est un modèle de photorésist avancé qui permet aux utilisateurs d'effectuer des processus de photolithographie avec précision et fiabilité sur des substrats de taille de plaquettes. L'équipement dispose d'un certain nombre de modules qui assurent une résistance uniforme à l'application, une exposition précise et précise, une gravure uniforme et un rinçage complet de la résine photosensible. Cela fait de 4300S un choix idéal pour les procédés modernes de fabrication de plaquettes.