Occasion MAXIMUS 804 #9013168 à vendre en France

MAXIMUS 804 est un équipement de photorésistance conçu pour la fabrication de plaquettes semi-conductrices. Il utilise une technologie de précision avancée pour assurer le contrôle de la qualité dans le traitement et l'analyse des échantillons. Le système exige une variété de processus avancés pour assurer une analyse fiable des échantillons. Cela comprend la lithographie, la gravure, l'application de photorésist, la planarisation mécanique chimique (CMP) et le dépôt. L'unité de photorésistance réduit considérablement le coût de fabrication des plaquettes semi-conductrices et est capable de produire des résultats avec une plus grande précision. Pour ce faire, on utilise un mandrin à vide pour maintenir efficacement la plaquette et assurer un contact précis entre la plaquette et chacun des différents composants de la machine. Ceci est suivi par l'application précise de photorésistes. Les résistances photo sont utilisées pour protéger la plaquette contre les gravures et les procédés chimiques, qui font partie intégrante de la fabrication des semi-conducteurs. Le photorésist peut être exposé optiquement au moyen d'un spectrophotomètre avancé et d'un outil optique réfléchissant qui assure des motifs répétables dans l'analyse et la fabrication des échantillons. L'atout est capable d'obtenir des résultats très précis, car il utilise des films à l'échelle nanométrique et résiste à la gravure sélective des structures sur la plaquette. En outre, il utilise CMP pour assurer l'uniformité et la planéité de l'échantillon. Lors de la lithographie, la résine photosensible est appliquée sélectivement sur la plaquette dans le motif prédéterminé. La plaquette est ensuite exposée à une lumière ultraviolette (UV) pour modeler sélectivement la résine photosensible. Enfin, la résine photosensible modelée peut être gravée et retirée, laissant derrière la plaquette des motifs précis formés selon la conception. Le modèle de photorésist 804 comprend également des fonctions d'essai et d'analyse avancées. Cela inclut des techniques d'analyse avancées telles que l'interférométrie laser, la diffusion optique et la résolution des bords. Ces caractéristiques garantissent que les plaquettes répondent aux normes exigeantes requises pour la fabrication des semi-conducteurs. Dans l'ensemble, l'équipement de photorésistance MAXIMUS 804 utilise une technologie de pointe et des techniques de processus de précision pour fournir une fabrication fiable et rentable de plaquettes semi-conductrices. Le système peut être utilisé pour former des motifs précis avec une précision répétable, et peut être utilisé pour faire des produits avec des performances fiables et une fiabilité durable.