Occasion MIKASA 1H-D2 #9393317 à vendre en France

MIKASA 1H-D2
Fabricant
MIKASA
Modèle
1H-D2
ID: 9393317
Spin coater.
MIKASA 1H-D2 est un équipement de photorésistance de pointe conçu pour fournir des performances supérieures dans des applications lithographiques difficiles. Les photorésistes sont des matériaux utilisés dans la fabrication de circuits intégrés, et sont exposés à la lumière à l'aide d'un projecteur lithographique. Selon l'exposition, le matériau résistant sera soit gravé sélectivement, soit conservé, ce qui donnera lieu à des motifs complexes qui constitueront la base des composants du circuit. 1H-D2 offre une fidélité supérieure à celle des photorésistes traditionnels dans les applications de photolithographie exigeantes. MIKASA 1H-D2 se compose de deux composants principaux : un matériau résistant sensible à la lumière et un processus de configuration. Le matériau sensible à la lumière est constitué d'un liant polymérique avec une variété d'additifs qui réagissent à différentes longueurs d'onde de la lumière. Lors de l'exposition à la source de lumière, la partie de la résine exposée durcira, tandis que les parties crues de la résine resteront douces. Cela permet la gravure de composants ou de motifs pour produire des motifs et des structures complexes. Le processus de dessin de système 1H-D2 se compose d'une série de pas où le fait de s'opposer est exposé, développé et post-traité. Pendant le processus d'exposition, la résine est placée sur la lentille de projection lithographique et est exposée à la source lumineuse traversant la lentille. Après l'exposition, et selon le temps d'exposition, les zones d'exposition de la résistance durcissent et les zones qui restent molles peuvent être éliminées sélectivement à l'aide d'un agent chimique. Après cette étape, on procède au développement chimico-mécanique qui élimine les parties non réagies de la résine par une combinaison de méthodes chimiques et mécaniques. Enfin, l'étape de post-traitement a lieu, où toute résistance molle restante est éliminée par une autre méthode chimique ou mécanique. Les avantages de l'utilisation de la photorésist MIKASA 1H-D2 comprennent une résolution accrue par rapport aux photorésistes traditionnels, ainsi qu'une réduction de la perte de plaquettes et du temps de développement. La meilleure résolution de la résistance aide à améliorer le processus de mise en forme et réduit les coûts associés à la fabrication du dispositif. De plus, la perte de plaquettes et le temps de développement sont réduits en raison de la capacité de traiter sélectivement les zones de la résistance, éliminant les zones qui ne sont pas nécessaires pour la conception de l'appareil. En conclusion, 1H-D2 est une machine de photorésistance de pointe qui fournit une résolution et des performances supérieures dans les applications lithographiques. La résolution améliorée aide à améliorer le processus de fabrication du dispositif, et la perte de plaquettes réduite et le temps de développement rendent le processus de production global plus efficace.
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