Occasion MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN #9243731 à vendre en France

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN est un équipement photorésist de nouvelle génération conçu pour apporter une haute précision et une haute qualité à la production de dispositifs semi-conducteurs. Ce système crée rapidement et avec précision des couches minces utilisées comme masque photorésist pour la réalisation de dispositifs à haute densité. MP-1408T LN est conçu pour être une solution économique pour les équipements d'exposition photorésist et peut être utilisé pour produire une variété de structures d'appareils, tels que DRAM à grande vitesse, mémoires Flash et puces empilées 3D. La machine utilise une unité optique spécialisée qui effectue la correction d'aberration, et sa précision de résolution d'image est de 0,25 μ m avec une largeur de ligne minimale de 0,06 μ m. MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN utilise une lentille asphérique au pas ultra fin comme source d'exposition, capable de fournir une irradiation uniforme sur une large gamme de longueurs d'onde pour la lumière visible et ultraviolette. Il est capable de scanner jusqu'à 13 000 mm/min, ce qui permet une production rapide d'un seul faisceau. En outre, cette machine photorésist dispose d'une large plage d'exposition de 0,25 à 450 μ m et d'une large gamme de résolution de 1 μ m/p à 0,25 μ m afin de répondre à la variété des besoins pour la production de dispositifs semi-conducteurs. MP-1408T LN utilise un outil de focalisation automatisé pour une haute précision, ainsi qu'un actif de moniteur intégré qui suit de près l'ensemble du processus d'exploitation. Son modèle d'étage avancé est capable de segmenter le mouvement de la table porte-air et le positionnement de la tête, permettant un réglage fin et le réglage de la vitesse sans sacrifier la résolution. Avec l'utilisation du logiciel de prétraitement embarqué inclus, l'optimisation des processus peut être facilement réalisée. De plus, l'équipement MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN présente une propreté supérieure à celle des autres systèmes photorésistants, car tous ses composants sont conçus et construits selon les normes de qualité les plus élevées. Cela garantit que la production de semi-conducteurs peut se faire avec un minimum de débris, ce qui réduit les risques de contamination des dispositifs et les retards éventuels de production. Dans l'ensemble, MP-1408T LN est un système photorésist très avancé conçu pour fournir une précision et une précision élevées à la production de dispositifs semi-conducteurs. Il dispose d'une unité optique qui peut effectuer une correction d'aberration et une large gamme d'exposition, avec une machine de focalisation automatisée et un logiciel de prétraitement pour des processus optimisés. La machine est également conçue pour une propreté supérieure, garantissant que la production peut se faire avec un minimum de débris.