Occasion MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN #9243732 à vendre en France

MITOMO SEMICON ENGINEERING MP-1408T LN est un équipement de photorésistance pour le développement et le traitement de dispositifs semi-conducteurs haute densité. Le système comprend un module de photorésistance, un module de pulvérisation, un module de pré-traitement et un module de post-traitement pour fournir une solution complète pour les processus de photorésistance doux et durs. Le module photorésist utilise des procédés optiques avancés pour exposer des semi-conducteurs avec des motifs précisément formés. Cela comprend l'imagerie numérique haute vitesse, l'imagerie par masque et les capacités d'inspection qui permettent l'accumulation couche par couche efficace de conceptions complexes à partir de plusieurs substrats. Les substrats jusqu'à 300mm de diamètre peuvent être traités, et jusqu'à cinq masquages peuvent être effectués. L'utilisation d'un processus de nivellement automatique entièrement automatisé augmente encore la précision et la vitesse du processus. Le module de pulvérisation assure un contrôle serré des procédés et un dépôt uniforme des matériaux. Il se compose d'une unité de pulvérisation automatique pour l'application de la matière résineuse, suivie d'une machine de séchage multi-zones brevetée. La méthode spin-on produit des lignes conformes précises avec une haute définition, tandis que la technique de pulvérisation donne des caractéristiques tridimensionnelles avec une uniformité supérieure. Le module de prétraitement est utilisé pour le nettoyage et le conditionnement de surface avant le dépôt de la résine photosensible. Il intègre à la fois des procédés chimiques acides et de base pour le nettoyage des contaminants de la surface. Comme couche supplémentaire de protection, il n'y a pas de contiguïté de produits chimiques de nettoyage, et le mélange de prétraitement est réutilisé plusieurs fois pour une qualité et une répétabilité de modèle supérieures. Le module de post-traitement complète le processus en éliminant toute photorésist résiduelle. Il consiste en un outil de strippage aqueux, suivi d'un procédé de rinçage et de séchage à l'eau chaude. Ce procédé en plusieurs étapes assure l'élimination complète de la résine photosensible des substrats de différentes tailles. MP-1408T LN est une solution polyvalente et économique pour le développement de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération. Ses procédés automatisés offrent une qualité de produit supérieure et sont capables de traiter des couches de résines photosensibles souples et dures. En conséquence, l'actif est adapté à une application dans une large gamme de conceptions de circuits.