Occasion MSETEK VRD 8000 #9280585 à vendre en France

MSETEK VRD 8000
Fabricant
MSETEK
Modèle
VRD 8000
ID: 9280585
Style Vintage: 2000
PR coating developer 2000 vintage.
L'équipement de résistance photographique MSETEK VRD 8000 est un outil puissant pour produire des caractéristiques de résistance photosensible sur des substrats. Il s'agit d'un système conçu spécifiquement pour le dépôt de couches de photorésist sur des plaquettes ou des substrats, qui sont ensuite utilisés pour la lithographie et d'autres applications dans l'industrie des semi-conducteurs. VRD 8000 est une plate-forme polyvalente capable de produire une variété de structures photorésistantes avec une résolution et une qualité extrêmement élevées. La machine peut être utilisée pour réaliser des couches ultra minces de l'ordre de quelques nanomètres d'épaisseur. Cela rend l'outil utile pour les applications qui nécessitent des caractéristiques de petite taille. L'actif permet également le dépôt de matériaux avec exposition laser in situ, ce qui en fait un outil puissant pour les opérations de lithographie. Le modèle MSETEK VRD 8000 est capable de produire une variété de couches photorésistantes. Il peut également réaliser plusieurs types de couches différentes, telles que des couches photorésistantes positives ou négatives, et des motifs spécifiques de substrat. L'équipement peut également être personnalisé pour réaliser différentes couches et motifs photorésistants, selon l'application. VRD 8000 est conçu avec plusieurs caractéristiques de sécurité pour protéger le substrat et l'opérateur. Le système utilise une enceinte à capuchon pour contenir les vapeurs produites lors du processus de dépôt de photorésist. En outre, l'unité est équipée d'un moniteur de température de l'enceinte pour maintenir une température de fonctionnement sûre pour la machine. Ceci permet de ne pas endommager le substrat en cours de traitement. L'outil MSETEK VRD 8000 utilise également une variété de capteurs et de contrôleurs qui aident à la précision du dépôt de la résine photosensible. L'actif utilise un procédé d'imagerie laser pour détecter l'emplacement précis de la résistance photosensible sur le substrat, fournissant un niveau élevé de précision pour le motif produit. De plus, le modèle peut être programmé pour contrôler le temps de contact et la puissance laser afin d'assurer la bonne gravure et le temps de contact de la résine photosensible. Dans l'ensemble, le matériel de photorésistance VRD 8000 est un outil très polyvalent et fiable pour produire des caractéristiques de photorésist sur des substrats. Avec ses caractéristiques de sécurité avancées, ses capacités d'imagerie laser précises et sa capacité à personnaliser le processus de dépôt, le système est idéal pour une variété d'applications axées sur la lithographie dans l'industrie des semi-conducteurs.
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