Occasion MTC Cleaner Marine 4033-S319 #293631732 à vendre en France

ID: 293631732
System Mask format: 6" x 6" x 250 mL Excimer UV (2) Spin cleans Spin dry Hot plate Cool plate.
MTC Cleaner Marine 4033-S319 est un équipement de photorésistance de pointe à la pointe de l'imagerie numérique pour les procédés industriels basés sur la lithographie. Le système est composé d'un démonstrateur photorésistant, d'une unité de nettoyage des plaquettes et d'une ligne de placage. Il est conçu pour fournir des résultats propres et fiables dans les processus de lithographie. Le démonstrateur de photorésist, qui est utilisé pour nettoyer la surface d'une plaquette de silicium avant de l'enduire d'une nouvelle couche de photorésist, utilise un procédé de nettoyage UV innovant. Ceci est conçu pour s'assurer que tous les contaminants sont efficacement éliminés sans endommager la surface de silicium sous-jacente. La machine élimine également toute charge électrique statique qui peut causer des problèmes lors des processus de lithographie. L'outil de nettoyage des plaquettes utilise une combinaison de nettoyage chimique humide et de technologie de filtration avancée pour éliminer les impuretés organiques et inorganiques de la surface des plaquettes. Ce procédé est très efficace pour éliminer des particules de taille aussi petite que 5 nanomètres. La ligne de placage est utilisée pour appliquer une fine couche conforme de matériau de revêtement sur la surface de la plaquette. Ceci est essentiel pour protéger le silicium sous-jacent contre la contamination et les dommages lors des processus de lithographie. Il utilise une ligne de placage de pointe qui est conçue pour réduire les défauts liés aux opérations de placage et permettre un contrôle précis de l'épaisseur du revêtement. Dans l'ensemble, Cleaner Marine 4033-S319 photoresist actif est un équipement fiable et avancé conçu pour fournir des résultats supérieurs dans les processus basés sur la lithographie. Ses technologies innovantes sont conçues pour promouvoir des rendements propres et cohérents dans les processus de lithographie, permettant un contrôle précis et un degré de précision plus élevé. Ce modèle est un excellent choix pour les entreprises de lithographie qui cherchent à obtenir des performances supérieures dans leur processus de production.
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