Occasion MTH 30 #194143 à vendre en France

MTH 30
Fabricant
MTH
Modèle
30
ID: 194143
Style Vintage: 1999
Film coater 1999 vintage.
MTH 30 est un équipement de photorésistance liquide développé et produit par MicroChem Corporation. Il se compose d'un photoinitiateur exclusif à base aqueuse, phénol-formaldéhyde et d'une large gamme de résines photorésistantes liquides. 30 système est formulé pour fournir une résolution plus élevée, une meilleure adhérence et une plus grande résistance aux produits chimiques. MTH 30 photorésist unit est utilisé en photolithographie, un processus de transfert de motif par la lumière et la chimie. Il est principalement utilisé pour fabriquer des cartes de circuits imprimés et des photomasques. Une fois la résine photosensible appliquée et le solvant éliminé, le film photosensible est alors exposé à une lumière de résistance et de longueur d'onde particulières. L'exposition à la lumière active l'initiateur photo, qui forme des intermédiaires réactifs à partir des résines formulées. Ces espèces réactives provoquent une modification de la solubilité de la résine photosensible. Après l'exposition à la lumière, la résine photosensible est développée avec le solvant approprié pour éliminer la résine photosensible non exposée et révéler une surface modelée. Les avantages de 30 photorésisteurs sont sa capacité à créer des motifs petits et reproductibles, avec une résolution inférieure à 10 microns. L'outil a également une excellente résistance aux solutions communes de développeur et une excellente stabilité pour une longue durée de conservation. Il offre une bonne adhérence aux substrats propres et une bonne manufacturabilité avec un faible coût par plaquette. En outre, MTH 30 photorésist actif est facile à nettoyer et compatible avec de nombreux solvants organiques, il est donc bien adapté pour une variété d'applications électroniques, optoélectroniques et autres. En résumé, 30 est un modèle de photorésist haute performance développé et produit par MicroChem Corporation. Il est formulé pour offrir une plus grande résolution, une meilleure adhérence et une plus grande résistance aux produits chimiques. Il est utilisé en photolithographie et présente de nombreux avantages comme une résolution améliorée, une excellente durabilité et la compatibilité avec de nombreux solvants organiques.
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