Occasion MTI CORPORATION MSK-AFA-I #9283974 à vendre en France

MTI CORPORATION MSK-AFA-I Photoresist Equipment est un système avancé et efficace conçu pour élargir la zone d'exposition dans les procédés de photorésistance dans l'industrie des semi-conducteurs. L'unité combine un seul masque photo et une seule chambre photorésistante avec des composants avancés qui offrent une combinaison d'agilité, de surface d'exposition et de temps d'exécution rapide. La machine utilise un étage intégré entièrement automatisé et un seul photomasque pour exposer la photorésist, ce qui donne une grande surface d'exposition par rapport à un outil photorésist standard. L'actif automatisé comprend un modèle de conduite à grande vitesse, un étage de mouvement linéaire, un étage breveté LSS eXP, un équipement optique intégré et une unité avancée de dépôt chimique en phase vapeur (PECVD). Ce système permet une plus grande surface d'exposition que les systèmes conventionnels et permet un débit plus élevé. L'étage de mouvement linéaire du MSK est conçu pour être très polyvalent, intégrant des éléments tels que des rampes d'entraînement à vitesse variable et une unité de surveillance de vitesse rapide. Ceci permet de contrôler plus étroitement l'accélération du photomasque au fur et à mesure de son déplacement au cours du processus d'exposition et assure un contrôle précis de la zone d'exposition afin d'obtenir une plus grande précision lors de la création de motifs photorésistants complexes. La machine utilise également Smart EXposure™ avec des objectifs multi-tâches capables d'atteindre de nouveaux niveaux d'agilité et de vitesse, tout en augmentant l'efficacité du processus. L'outil peut également réduire la durée du processus d'exposition en réduisant la quantité de photomasque utilisée, et l'actif optique intégré peut transférer plus de 25 % de la lumière dans une onde continue. Le modèle MSK-AFA-I dispose également de capacités de chauffage jusqu'à quatre étages, permettant un contrôle précis des propriétés de la résine photosensible pendant le processus d'exposition. L'équipement offre également un taux de rendement élevé grâce à un procédé breveté de dépôt de fluorure de magnésium (MgF2) CVD qui augmente significativement la sensibilité de la photorésist à la lumière ultraviolette (UV). Ce système dispose également de l'unité brevetée SPClean100™, une machine de nettoyage brevetée qui combine un aspirateur avec un outil de nettoyage par gravure humide pour épuiser et éliminer tous les résidus de la photomasque, fournissant un photomasque propre et fiable pour chaque exposition. Enfin, l'actif MTI CORPORATION MSK-AFA-I est équipé d'un progiciel propriétaire, permettant une simple modification des paramètres, la programmation des paramètres et le fonctionnement automatisé. L'interface graphique utilisateur (interface graphique) du modèle permet également aux opérateurs une compréhension plus intuitive des processus d'exposition et permet un contrôle efficace du photomasque afin d'obtenir un résultat de haute qualité pour chaque exposition. MSK-AFA-I Photoresist Equipment est un outil avancé et très efficace pour les procédés de photorésistance dans l'industrie des semi-conducteurs. Il utilise des composants automatisés intégrés et des logiciels pour augmenter la zone d'exposition, ainsi que la flexibilité et l'exactitude et la cohérence améliorées. Le système offre également des capacités de nettoyage robustes ainsi qu'une vitesse de production élevée, ce qui en fait la solution idéale pour toutes les applications de production de résines photosensibles.