Occasion MTS 1913-E01 #9046517 à vendre en France

MTS 1913-E01 est un équipement de photorésistance conçu pour les procédés de fabrication microélectronique. Il s'agit d'un système photorésist de type spin-on conçu pour être utilisé dans le procédé de revêtement de thespin, qui est le procédé le plus couramment utilisé dans la préparation de substrat pour la fabrication de semi-conducteurs. 1913-E01 unité de résine photosensible est constituée de deux composants : la résine sensibilisée, qui est la résine photosensible appliquée sur le substrat, et le révélateur, qui est utilisé pour éliminer les parties non actives et exposées de la résine. Le capteur résiste est un produit liquide soluble dans l'eau contenant des composants qui fournissent une accumulation de film sur le substrat lors de l'application. Elle réagit chimiquement à la lumière UV d'une longueur d'onde spécifique. Après l'exposition à la lumière UV, le substrat est ensuite développé à l'aide de la solution du révélateur. La solution du révélateur contient des composés réactifs qui, lorsqu'ils sont activés, ne gravent que le matériau photorésistant exposé, d'où un motif gravé sur le substrat. La photorésistance MTS 1913-E01 a été fortement testée et utilisée dans une grande variété de procédés microélectroniques. C'est un outil haute performance avec une résolution superbe et une excellente définition des bords. Il offre également une homogénéité exceptionnelle de la résistance restante, et peut être contrôlé avec précision pour obtenir des dimensions de couche et de caractéristiques précises. Le procédé se traduit par un actif photorésist hautement fiable et rentable pour la fabrication microélectronique. Le modèle est facile à utiliser, nécessite une formation minimale de l'opérateur et élimine le besoin de prétraitements manuels. Il a également une excellente stabilité de conservation lorsqu'il est stocké dans un environnement propre et frais. De plus, sa haute résistance aux solvants lui permet de résister aux solvants organiques agressifs, aux acides et aux bases. En conclusion, 1913-E01 matériel de photorésistance est un choix idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et microélectroniques, fournissant d'excellents résultats en termes de résolution, de définition des bords, d'uniformité des couches, de rentabilité et de compatibilité avec les solvants agressifs.