Occasion MUSCAT SPL-455 #9198107 à vendre en France

Fabricant
MUSCAT
Modèle
SPL-455
ID: 9198107
Wafer developer.
MUSCAT SPL-455 est un équipement de photorésistance conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Développé par Mitsubishi Chemicals, il est conçu pour offrir une grande pureté, uniformité et fiabilité dans un large éventail d'applications de photolithographie. Contrairement aux systèmes de photorésistance classiques, SPL-455 est conçu pour résister à des températures élevées, ce qui le rend idéal pour le traitement des pellicules et d'autres processus au niveau des plaquettes qui nécessitent une stabilité à haute température. Le système est constitué d'un bain de gravure électrochimique et d'un agent photo-actif de haute pureté qui, lorsqu'il est exposé à la lumière ultraviolette, crée une réaction électrochimique sur le substrat entraînant la gravure de la couche de résine photosensible. L'agent photo-actif dans le MUSCAT SPL-455 est composé d'un mélange de plusieurs hauts composés de pureté, en incluant un agent se stabilisant tels qu'un sel, un acide, un agent s'oxydant et un solvant photoopposer. Lorsque le bain de gravure est exposé à la lumière UV, les composés dans l'agent photo-actif se chargent, déclenchant la réaction électrochimique. Il en résulte une gravure de la couche de photorésist, permettant un degré de résolution et de répétabilité beaucoup plus élevé qu'avec les systèmes de photorésist classiques. Le bain de gravure électrochimique lui-même est conçu pour maintenir la température et les niveaux chimiques de manière cohérente et précise, permettant la reproductibilité et la qualité sans nécessiter de maintenance ou d'étalonnage fréquents. L'unité offre également une grande variété de mécanismes de contrôle de processus, y compris plusieurs paramètres personnalisables, tels que la vitesse de gravure et la vitesse de gravure, ainsi que des outils avancés et des logiciels conçus pour améliorer l'automatisation. SPL-455 est une machine photorésiste fiable et de haute qualité qui offre un large éventail de caractéristiques et est très polyvalent, ce qui la rend idéale pour les processus de fabrication de semi-conducteurs. Avec ses matériaux, sa technologie et ses procédés de pointe, l'outil offre aux utilisateurs une fiabilité et des performances inégalées.
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