Occasion NANO OPTICS HAZE 2 #293589807 à vendre en France

NANO OPTICS HAZE 2 est un équipement de photorésistance développé par le géant des matériaux industriels Honeywell. Ce système est conçu pour être un procédé de photomasking facile à utiliser pour le dépôt de couches minces, la photolithographie et d'autres applications connexes. L'unité utilise un filtre à brume polyuréthane dépendant de la longueur d'onde unique qui fournit un niveau de lumière constant sur une large gamme de longueurs d'onde et d'intensité. La machine HAZE 2 est composée de trois composants : le filtre à brume polyuréthane, l'alimentation électrique et l'unité de contrôle d'exposition. Le filtre à brume est ce qui absorbe le rayonnement ultraviolet émis par la source lumineuse et réduit l'intensité de l'exposition. Ce filtre tend à maintenir une intensité uniforme sur une large gamme de longueurs d'ondes UV, ce qui est essentiel pour un dépôt régulier en couches minces. L'alimentation fournit la puissance requise pour l'unité de contrôle de l'exposition et le filtre à brume. Enfin, l'unité de contrôle d'exposition est constituée d'un microprocesseur avec une interface utilisateur graphique qui permet à l'utilisateur d'ajuster les paramètres d'exposition à la volée. Une autre caractéristique clé de l'outil NANO OPTICS HAZE 2 est sa conception anti-contamination. L'actif est construit avec une base, plate-forme et capot modulaire, qui contiennent ensemble tous les composants du modèle dans un environnement scellé. Cette conception anti-contamination permet de s'assurer qu'aucune saleté, poussière ou autre contaminant ne sera piégée par le filtre à brume et ne se retrouvera sur le substrat en cours de traitement. L'ensemble de l'équipement est conçu pour rendre le processus de photomasking plus facile et plus rapide afin que le dépôt en couches minces puisse se faire en une fraction du temps qu'il prend avec des procédés de photomasking plus traditionnels. De plus, l'exposition constante fournie par le système HAZE 2 garantit des épaisseurs constantes de dépôt en couches minces ainsi que des rendements et un débit améliorés. En conclusion, NANO OPTICS HAZE 2 photoresist unit est un outil puissant et efficace pour effectuer rapidement et avec précision une large gamme de processus de photolithographie et de dépôt en couches minces. La conception compacte et les caractéristiques anti-contamination de la machine en font un choix idéal pour ceux qui recherchent un moyen fiable, efficace et rentable d'exécuter ces processus avec des résultats cohérents.