Occasion NEC FC-9821Ka #293663397 à vendre en France

NEC FC-9821Ka est un équipement de photorésistance développé par NEC pour diverses applications de dépôt et de gravure de couches minces. Le système traite une large gamme de substrats et offre une résolution inégalée des fonctionnalités jusqu'à 10nm. L'unité utilise la dernière technologie LCOS (Liquid Crystal on Silicon) pour focaliser la résine photosensible d'une manière inégalée. FC-9821Ka machine comprend la dernière technologie d'inspection des plaquettes pour la caractérisation précise des caractéristiques. Cet outil est conçu pour des applications avancées de découpage telles que la tranchée, le remplissage, la gravure des caractéristiques de conception de sous-microns et le dépôt latéral. Le processus d'exposition est basé sur le processus de photolithographie. Grâce à l'équipement avancé de contrôle des réticules LCOS et au modèle d'alignement des verrous focaux à commande laser (FLA), l'équipement peut fournir une résolution inégalée. Les photoréalistes utilisés par le système sont de haute pureté et peuvent être modulés jusqu'à 150nm. NEC FC-9821Ka est également équipé d'un faisceau ionique Plasma Focus (PFIB) pour la gravure et le dépôt à sec de matériaux en couches minces. Une source de décharge d'hélium permet une excellente sélectivité de gravure plasma et fournit des coûts d'exploitation relativement faibles. La machine PFIB est également construite avec une très haute luminosité pour traiter des couches de masquage délicates pour la photolithographie avancée. L'unité de développement de bobines incluse dans FC-9821Ka contient des fonctions chimiques et de spin-coating, offrant une variété d'applications photorésistantes de situations basiques à ultra-complexes. Le processus de cuisson post-exposition intégré garantit des résultats de traitement précis et reproductibles des plaquettes. Pour maximiser le temps de disponibilité, l'outil est équipé d'un chariot d'impression et de développement. Il est télécommandé et peut exercer toutes les caractéristiques de la machine sans intervention manuelle. Les diagnostics aident à identifier les plaquettes ou les pièces de verre qui sont difficiles à traiter. Il permet également l'optimisation du procédé permettant une plus grande répétabilité et précision. En conclusion, NEC FC-9821Ka est un actif photorésist polyvalent et puissant qui offre d'excellentes caractéristiques et fiabilité. Grâce à ses technologies avancées et au contrôle profond des paramètres, le modèle peut être utilisé pour diverses applications de dépôt et de gravure de couches minces. L'équipement offre précision et répétabilité à des niveaux élevés tout en minimisant les coûts d'exploitation grâce à ses systèmes intégrés PFIB et Coater-Developer.