Occasion NTACT / GS GLOVEBOX nRad #293725233 à vendre en France
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ID: 293725233
Taille de la plaquette: 6"-8"
Die coater, 6"-8"
Glove box
Substrate size: 210mm x 300mm
Coating thickness range (Dry): 20 nm - 100 µm
Coating uniformity: ±3% - ±5%
Leading / Trailing edge effect: 5 mm - 10 mm
Coating material viscosity: 1 cP - 70 cP
Range: Up to 5000 cP with high viscosity pump
System fill volume: As low under 10ml
Substrate type: Glass, Plastic, Metal foils, Silicon wafers, Rigid / Flexible
Substrate thickness:
Rigid: 0.5 mm - 6 mm
Flexible: > 100 µm
M-LINE
(2) Filters
Activated carbon filter.
NTACT/GS GLOVEBOX nRad est un équipement photorésist de pointe conçu pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Ce système intègre une technologie de pointe pour assurer un contrôle précis de l'application, de l'exposition et du développement des photorésistances, assurant ainsi des résultats de haute qualité dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. L'unité est équipée d'un design glovebox pour maintenir un environnement contrôlé et exempt de contaminants, permettant un traitement fiable et répétable des matériaux photorésistants. La machine nTACT nRad dispose d'une source de rayonnement spécialisée pour l'exposition précise et uniforme des revêtements photorésistants. La source de rayonnement est conçue pour délivrer des longueurs d'onde spécifiques de lumière à haute intensité, permettant de modeler avec précision des couches de photorésist sur des substrats semi-conducteurs. Cette capacité est essentielle pour définir des motifs et des structures complexes à la surface des dispositifs semi-conducteurs, tels que les circuits intégrés et les systèmes microélectromécaniques (MEMS). L'outil comprend également une interface de contrôle sophistiquée qui permet aux utilisateurs de peaufiner les paramètres d'exposition, tels que l'intensité lumineuse, le temps d'exposition et la taille du motif. Ce niveau de contrôle est crucial pour optimiser le processus de photorésistance et obtenir la résolution et la fidélité de motif souhaitées dans la fabrication des semi-conducteurs. De plus, l'actif est équipé de mécanismes avancés de surveillance et de rétroaction pour assurer des performances cohérentes et minimiser la variabilité du processus de photorésistance. Une des caractéristiques clés du modèle GS GLOVEBOX nRad est sa capacité à fonctionner dans un environnement glovebox. Le glovebox offre une atmosphère scellée et contrôlée qui protège les matériaux photorésistants sensibles contre l'exposition à des contaminants tels que l'humidité, la poussière et les particules en suspension dans l'air. Ceci est essentiel pour maintenir la qualité et l'intégrité des couches photorésistantes lors du traitement, ce qui est essentiel pour obtenir des rendements et une fiabilité élevés dans la fabrication des semi-conducteurs. L'équipement NRad est également équipé de dispositifs de sécurité avancés pour protéger les opérateurs et prévenir les accidents pendant l'exploitation. Il s'agit notamment d'intercalaires, de capteurs de sécurité et de mécanismes d'arrêt d'urgence pour assurer la manipulation sécuritaire des matières dangereuses et des sources de rayonnement. En outre, le système est conçu avec des considérations ergonomiques pour améliorer le confort et la productivité de l'utilisateur lors de tâches de traitement longues et répétitives. En termes de performances, l'unité NTACT/GS GLOVEBOX nRad offre un débit et une efficacité élevés dans le traitement des résines photosensibles, ce qui le rend adapté à la production en volume de dispositifs semi-conducteurs. La machine est conçue pour répondre aux exigences exigeantes de l'industrie des semi-conducteurs, y compris la haute résolution, l'uniformité et la répétabilité en photorésistance. En tirant parti des technologies de pointe et des fonctionnalités de conception innovantes, l'outil NTACT nRad aide les fabricants de semi-conducteurs à obtenir une qualité et des performances supérieures dans leurs processus de fabrication. Globalement, l'actif GS GLOVEBOX nRad représente une solution de pointe pour le traitement des résines photosensibles dans la fabrication de semi-conducteurs. Grâce à sa technologie de pointe, son contrôle de précision et ses performances fiables, ce modèle permet aux fabricants de semi-conducteurs de répondre à la demande croissante de dispositifs à semi-conducteurs haute et haute densité. En tant que composante essentielle du processus de fabrication des semi-conducteurs, les équipements nRad jouent un rôle clé dans l'innovation et la promotion des capacités de la technologie des semi-conducteurs.
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