Occasion NTACT nRad 2 #293736651 à vendre en France
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ID: 293736651
Die coater, 12"
Uniformity: ±3%
Maximum coating speed: 100 mm/s
Coating thickness: 20nm - 100µm (dry)
Fluid viscosity: 1cps - 60cps
Manual substrate handling
UL and CE Compliant
Compressed gas supply: 100psi
Vacuum: 25 in HG
Power supply: 15 A, 120 VAC, 50-60 Hz, 1 Phase, 3 wire.
NTACT nRad 2 est un équipement de photorésistance de pointe qui a été spécialement conçu pour des applications de haute résolution dans la fabrication de semi-conducteurs, la production d'écrans plats et d'autres industries de la microélectronique. Ce système offre une large gamme de fonctionnalités et de capacités qui le rendent idéal pour la production de circuits intégrés complexes, de capteurs et de systèmes microélectromécaniques (MEMS). Une des caractéristiques clés de l'unité photorésist NTACT NRAD2 est sa haute précision et sa répétabilité, qui est essentielle pour atteindre la fidélité et la résolution souhaitées en lithographie semi-conductrice. La machine est équipée de capacités avancées d'alignement optique et de focalisation, permettant un alignement précis de la couche de résine photosensible avec le substrat sous-jacent. Ceci garantit que les motifs créés par l'outil sont transférés avec précision sur le substrat avec une haute résolution et fidélité. L'actif NRad 2 offre également une large gamme d'options d'exposition, y compris les UV, les UV profonds et la lithographie par faisceau électronique, permettant aux utilisateurs de choisir la méthode d'exposition la plus adaptée à leurs exigences d'application spécifiques. Le modèle est capable de manipuler une variété de matériaux photorésistants, y compris des résistances aux tons positifs et négatifs, ainsi que des résistances amplifiées chimiquement, offrant aux utilisateurs une flexibilité dans le choix de la résistance la plus appropriée à leurs besoins de processus. En plus de sa haute précision et flexibilité, NRAD2 photorésistent l'équipement offre aussi de hautes capacités de débit, en tenant compte du fait de modeler rapide et du fait de refléter de grande région substrates. Le système est équipé d'un étage à grande vitesse et de capacités de manipulation robotique, permettant un traitement efficace de plusieurs plaquettes en une seule fois. Cette capacité de débit élevée est essentielle pour répondre aux exigences de production de la fabrication de semi-conducteurs à haut volume et d'autres applications de microélectronique. Un autre avantage clé de l'unité nTACT nRad 2 est ses fonctions avancées de contrôle et de surveillance des processus, qui permettent aux utilisateurs d'optimiser et de peaufiner leurs processus de lithographie pour obtenir les meilleurs résultats possibles. La machine est équipée d'outils de surveillance en temps réel qui permettent aux utilisateurs de suivre les paramètres clés du processus tels que la dose d'exposition, la focalisation et la précision d'alignement, leur permettant d'effectuer des ajustements rapides afin d'optimiser leur processus de lithographie et d'assurer des résultats cohérents. Dans l'ensemble, l'outil photorésist NTACT NRAD2 est un outil puissant et polyvalent pour l'imagerie haute résolution dans la fabrication de semi-conducteurs et d'autres applications de microélectronique. Avec sa précision avancée, sa flexibilité, ses capacités à haut débit et ses fonctions avancées de contrôle des processus, cet atout est un choix idéal pour les chercheurs et les fabricants qui cherchent à obtenir des résultats de haute qualité dans leurs appareils de microélectronique avancés.
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