Occasion NTACT nRad #293813619 à vendre en France

NTACT nRad est un équipement de photorésistance conçu pour les procédés lithographiques avancés. Les photorésistes sont des produits chimiques utilisés pour créer des motifs sur des photomasques, des plaquettes et d'autres substrats. Le système NRad est une technologie d'imagerie sous-onde basée sur un interféromètre interférentiel. Avec cette unité, des caractéristiques de taille nanométrique peuvent être créées pour diverses fabrications de semi-conducteurs. La machine nRad NTACT utilise un faisceau de lumière cohérente, assez monochromatique pour dessiner la conception sur le substrat. Cette lumière est composée de photons dont chacun porte une certaine quantité d'énergie. Les photons interagissent avec le matériau résineux, qui est typiquement composé d'un polymère et d'autres composés photorésistants, affectant la composition chimique du matériau. Comme l'intensité lumineuse varie, la quantité d'énergie transportée par chaque photon change, modifiant les propriétés chimiques de la photorésist. Cela permet une génération de motifs extrêmement précise et détaillée à une résolution allant jusqu'à quelques centaines de nanomètres. Avec ce niveau de précision, l'outil nRad peut être utilisé pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs complexes avec de minuscules caractéristiques telles que des transistors et d'autres composants de circuits. La précision de l'actif est également imputée à son utilisation d'un interféromètre interférentiel à deux faisceaux. Ce type d'interféromètre utilise un « biprisme » pour diviser un seul faisceau de lumière en deux faisceaux avec une différence de phase réglable entre les faisceaux. La différence de phase peut être ajustée avec précision pour créer un motif spécifique sur le substrat. Le modèle nRad NTACT est également bien adapté à d'autres techniques de fabrication telles que la lithographie par faisceau d'électrons, l'écriture par faisceau d'ions et la lithographie ultraviolette extrême. Une combinaison de ces techniques peut être utilisée pour créer des modèles complexes de caractéristiques à l'échelle nanométrique nécessaires à la fabrication d'appareils modernes. Dans l'ensemble, l'équipement nRad est un outil puissant utilisé dans les procédés de lithographie et de fabrication avancés. Ce système utilise un interféromètre interférentiel à deux faisceaux pour générer des caractéristiques à l'échelle des nanomètres sur des substrats avec des propriétés extrêmement précises et non destructives. En conséquence, il est un élément clé dans les paradigmes lithographiques actuels et très recherché dans l'industrie.