Occasion NTACT nRad #9410379 à vendre en France

NTACT nRad est un équipement de photorésistance développé par NTACT Corporation. Ce système photorésist avancé offre des caractéristiques supérieures en matière de performance, d'uniformité et de compatibilité. Il est idéal pour la fabrication de composants semi-conducteurs avancés, de produits biomédicaux et de MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems). En termes simples, l'unité photorésist nRad utilise une couche liquide photosensible pour créer une surface modelée. Après exposition de la couche liquide à une longueur d'onde de lumière spécifique, la couche exposée peut être développée et servir de couche isolante pour la couche métallique. La couche exposée révèle la couche modelée sur le dessus. La machine NTACT nRad utilise une conception de suspension unique avec des capacités de mélange avancées, ce qui la rend hautement adaptée aux processus de production à grande échelle. La suspension peut également être ajustée très finement pour répondre aux besoins des clients selon les exigences spécifiques de l'application. L'outil offre également un contrôle fin de la taille des caractéristiques nanométriques. Les capacités de mélange avancées et la structure complexe peuvent être très étendues avec la taille de la caractéristique souhaitée. Cela permet un réglage précis de la taille des fonctionnalités. Outre les photorésistances standard, l'actif est également capable de travailler avec des produits chimiques de résistance avancés tels que le SU8 et l'ECP (polymérisation électrochimique). Il offre également une excellente compatibilité avec les technologies avancées telles que la gravure par faisceau ionique et le traitement laser. Le modèle offre également d'excellentes performances en termes d'uniformité et de résolution. L'équipement NRad a une taille minimale de 0,6 micron, une largeur de ligne réglable de 0,1 micron, et une uniformité de +/- 0,005 microns. Le système photorésist nTACT nRad est très efficace et offre d'excellentes performances à un coût raisonnable. Cette unité de photorésistance avancée peut être utilisée pour fabriquer des substrats semi-conducteurs, des produits biomédicaux et des composants MEMS avec une excellente précision et efficacité.