Occasion OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF #9203891 à vendre en France

OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF est un équipement de haute performance conçu pour offrir une productivité, une précision et une répétabilité supérieures pour la fabrication de dispositifs microélectroniques et semi-conducteurs. Le système intègre une technologie de pointe pour modeler avec précision la résine photosensible sur des substrats tels que des plaquettes de silicium et d'autres substrats utilisés dans la fabrication de dispositifs. L'unité est constituée d'un étage de scanner qui positionne et oriente les substrats pour un tissage optimal. Il est équipé d'une machine d'imagerie numérique à ultra-haute résolution, d'un outil d'exposition sélective au laser précis et d'un atout optique à faible vitesse de haute précision pour des expositions photographiques cohérentes et précises. Le modèle intègre également un équipement de métrologie multi-zones pour le profilage automatique d'échantillons. Le système utilise une pellicule transparente à haute résolution qui est exposée à un faisceau laser ultraviolet (UV). La pellicule transparente est ensuite déplacée sur l'échantillon et exposée à une énergie laser supplémentaire. La combinaison de la pellicule transparente et du faisceau laser UV permet une définition précise des caractéristiques fines, même à haute résolution lithographique (450nm). 640SAF intègre également des algorithmes sophistiqués de traitement d'image pour un alignement précis du dispositif à motifs sur le substrat. En outre, il est capable de fournir une rétroaction précise à l'utilisateur sur l'uniformité et la répétabilité du processus d'imagerie, contribuant ainsi à garantir des résultats cohérents et de qualité. En outre, OHMIYA CORPORATIONOKH 640SAF offre la flexibilité de la taille de plusieurs substrats pour différents types de dispositifs semi-conducteurs. De plus, sa technique d'ouverture de masque réglable permet aux utilisateurs de passer facilement d'une exposition unique à plusieurs modes d'exposition. De cette façon, les utilisateurs peuvent ajuster rapidement l'appareil en fonction des différentes exigences du produit. Dans l'ensemble, 640SAF est une machine photorésist fiable et polyvalente qui offre une productivité, une précision et une répétabilité optimales pour divers processus de fabrication de dispositifs microélectroniques et semi-conducteurs. Ses multiples modes de fonctionnement permettent aux utilisateurs de passer rapidement entre différentes techniques de production, ce qui permet une large gamme de niveaux de complexité de conception d'appareils. De plus, les algorithmes sophistiqués de l'outil permettent un alignement rapide et précis de la conception du dispositif sur le substrat, fournissant ainsi des produits microélectroniques de haute qualité.