Occasion OKK OKK-500M #9153451 à vendre en France

OKK OKK-500M est un équipement photorésist de haute précision et une avancée majeure dans l'évolution des techniques lithographiques modernes. En combinant technologie optique de pointe, précision de nano-positionnement et automatisation, ce système offre une résolution d'image supérieure et une stabilité de processus dans un design polyvalent et facile à utiliser. Il est adapté à une grande variété d'applications dans des domaines tels que le MEMS, les semi-conducteurs composés et les cartes de circuits imprimés flexibles, ainsi que la fabrication de dispositifs traditionnels. OKK-500M est une unité d'automatisation clé en main avec un empileur multicouche à 12 canaux, permettant un traitement multicouche pour une production de haute capacité. Il est conçu pour un contrôle uniforme et précis de l'épaisseur du film en temps réel, donnant d'excellents résultats même pour les petites tailles et les largeurs jusqu'à 50nm. Sa technologie avancée de balayage par faisceau laser fournit une résolution de flip-chip allant jusqu'à 4um, avec une répétabilité et une précision élevées sans dérive. OKK OKK-500M y parvient grâce à son interféromètre optique à champ variable (FOI) qui contrôle la quantité de lumière appliquée au photorésist grâce à une optique adaptative avancée. En outre, une machine de dépôt de faisceau d'ions est disponible pour maximiser l'uniformité du film. Pour une utilisation facile, l'outil est livré avec une interface grand écran tactile et intègre un processeur puissant de 30 KH. Le régulateur de température PID élimine les problèmes de gradient de température et ses outils de dépôt très efficaces réduisent la contamination des particules. L'actif prend également en charge les systèmes de métrologie sans contact pour accélérer le démarrage et le suivi des processus. Enfin, le modèle de balayage multi-cibles à haut débit d'OKK-500M permet une variété de formats de photomasques, avec une résolution du pas de commande de focalisation inférieure à 30nm. Cela le rend idéal pour positionner des caractéristiques photomasques, et assure une reproductibilité parfaite lorsque des impressions séquentielles sont nécessaires. Toutes ces fonctionnalités et plus encore font d'OKK OKK-500M un équipement de photorésistance extrêmement puissant. Sa polyvalence, sa fiabilité et son rapport coût-efficacité combinés à son haut niveau de précision le rendent idéal pour tout environnement avec des exigences de processus complexes. C'est le choix parfait pour toute technologie lithographique de pointe utilisée dans la nano-fabrication moderne d'aujourd'hui.