Occasion OKK SRD #9144785 à vendre en France

OKK SRD est un équipement de photorésistance positive de type modulé qui est utilisé pour l'imagerie et le développement de motifs sur une surface de substrat. Des systèmes photorésistants sont utilisés pour créer des motifs sur des substrats pour diverses applications, comme les circuits imprimés pour l'électronique et la photolithographie. Le système SRD est composé de trois parties : la résine photosensible, la source lumineuse et la solution de développement. La résine photosensible est un matériau photosensible appliqué sur une surface de substrat. Lorsque ce matériau est exposé à la lumière de la source lumineuse, certaines zones de la résine photosensible subiront une réaction chimique qui laisse le matériau soit soluble, soit insoluble dans une solution de révélateur liquide. Ceci est connu sous le nom de photolithographie. La source lumineuse de l'unité OKK SRD est une lumière modulée, qui est composée de lumière qui augmente périodiquement et diminue en intensité. En faisant varier l'intensité de la lumière, des zones spécifiques de la résine photosensible deviennent affectées et ces zones peuvent alors être facilement éliminées avec la solution du développeur. L'avantage de cette machine est qu'elle est moins longue et coûteuse que l'utilisation d'une source lumineuse à un seul niveau. La solution de développement dans l'outil SRD contient un agent de développement anionique ou cationique. Selon le type d'agent de développement utilisé, les zones de la résine photosensible qui ont été exposées à la lumière deviendront plus ou moins solubles. Cela permet aux utilisateurs d'enlever facilement le matériau photorésist indésirable de la surface du substrat. En conclusion, OKK SRD actif est un modèle photorésist innovant. Il permet aux utilisateurs de produire rapidement et de façon rentable des modèles sur substrats en utilisant une source lumineuse modulée et une solution de développement anionique ou cationique. De ce fait, cet équipement est largement utilisé pour la réalisation de dispositifs microélectroniques et de procédés de photolithographie.