Occasion OPTORUN GENER-1300 #293615983 à vendre en France
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ID: 293615983
Style Vintage: 2008
Vacuum coater
Chamber: φ1300 mm x 1500 mm
Dome: φ1200 mm (Spherical)
Low energy DC ion source (For plastic lenses)
EDWARDS E2M285 Pump, 2010 vintage
HELIX / POLYCOLD PFC-1000HC Chiller
Exhaust system:
E2M275 + EH1200 Lu Type, 2010 vintage
DP + POLYCOLD, 28"
Evaporator:
JEOL JST-10F E-beam power supply, 10kW
(2) Thermal resistance boats
Film thickness control:
Optical monitoring
6-Points quartz monitoring
2008 vintage.
OPTORUN GENER-1300 est un équipement de photorésistance utilisé pour fabriquer des microcircuits, des semi-conducteurs, des dispositifs MEMS et d'autres composants utilisés dans les industries de l'électronique et des semi-conducteurs. Il utilise la lumière UV avancée, y compris les lasers UV, pour exposer la couche de résistance photosensible sur un substrat. Cette résistance est alors utilisée pour définir les motifs de circuit et les agencements à la surface du substrat. Le système photorésist OPTORUN GENER 1300 peut exposer des résistances à la lumière avec une longueur d'onde de 190-365 nm. L'intensité et la durée de l'exposition à la lumière sont contrôlées par un mécanisme de synchronisation de haute précision. L'unité est divisée en quatre composantes principales, chacune exécutant une tâche spécifique dans le processus. Le premier composant est la machine de lithographie, qui est chargée d'exposer la surface de résistance à la lumière UV. Une tête optique contient un laser focalisé et dirigé sur la surface du substrat. Ce laser est déplacé le long de la surface du substrat selon un trajet préprogrammé et peut être ajusté pour exposer différentes zones avec des intensités et des emplacements différents. Le deuxième composant est l'étape d'alignement, qui aide à amener le substrat dans la bonne position pour la machine de lithographie et à aligner la surface pour une bonne exposition. L'étage d'alignement peut être réglé en trois axes et peut être programmé pour effectuer diverses opérations. Le troisième composant est la machine de gestion de la chimie. Ce composant est chargé de contrôler le processus pré-cuit, le processus de développement et le post-traitement des substrats. Les étapes de pré-cuisson comprennent soft-bake, résistance revêtement, hard-bake, pré-gravure, et post-gravure. Le processus de développement implique un post-traitement de la résistance, notamment en mettant l'accent sur la sélection du solvant et du promoteur, la température, le temps et la concentration. Le quatrième composant est l'outil de voie, qui est chargé de charger et de décharger les substrats à l'entrée et à la sortie de la machine, ainsi que d'enregistrer des informations sur les substrats exposés et développés. En plus des quatre composants principaux, GENER-1300 actif photorésist est équipé de plusieurs caractéristiques de sécurité, y compris un bouclier de sécurité optique. Ce bouclier de sécurité protège l'opérateur contre tout rayonnement UV émis par le modèle et assure une protection contre les lésions oculaires potentielles. L'équipement est également équipé d'un système de régulation de température pour s'assurer que la température dans la machine reste dans une plage donnée pendant tout le processus de fonctionnement. Globalement, l'unité de photorésistance GENER 1300 est une machine avancée conçue pour fabriquer des composants électroniques avec précision et précision. L'environnement hautement contrôlé et les fonctions programmables permettent une fabrication rapide et efficace des motifs et des schémas de circuits. Les caractéristiques de sécurité garantissent un fonctionnement sûr et responsable de l'outil.
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