Occasion OPTORUN OTFC-1300 #9190582 à vendre en France

L'équipement photorésist OPTORUN OTFC-1300 offre aux utilisateurs un moyen fiable et efficace de traiter les films et les plaquettes. Grâce à ce système de photorésist, le matériau du substrat peut être exposé à un motif spécifique déterminé par une unité de conception assistée par ordinateur (CAO). Cette machine promet d'être un outil idéal pour la précision et la précision en lithographie microélectronique. OPTORUN 1300 utilise spécifiquement la photolithographie pour créer un motif désiré sur le matériau du substrat. La photolithographie fait intervenir un matériau exposé à la lumière qui modifie les propriétés du matériau d'une manière ou d'une autre. L'outil de projection photorésist OTFC 1300 optimise ce processus en utilisant une chambre à vide avec un étage de masque et un atout d'éclairage. L'étage de masque est l'endroit où est placé le photomasque conçu par CAO, et le modèle d'éclairage est constitué d'une source lumineuse avec un équipement de lentille de sortie. Le système de lentilles de sortie de lumière modifie le faisceau de lumière provenant de la source lumineuse, et le motif de la photomasque influence la façon dont la lumière affecte le matériau du substrat. OPTORUN OTFC 1300 a plusieurs fonctionnalités avancées. Il est équipé d'une unité de vide qui peut s'ajuster rapidement aux changements dans l'environnement, protégeant contre les effets nocifs potentiels des changements rapides de pression. La machine utilise également un outil de refroidissement pour éviter la surchauffe de la source lumineuse et assurer des performances cohérentes et précises. 1300 possède une caractéristique de gain à haute concentration, permettant d'augmenter les densités de faisceaux optiques avec une perte minimale. Enfin, cet actif photorésist offre une technologie d'auto-alignement, garantissant que chaque couche est toujours correctement alignée. Dans l'ensemble, OTFC-1300 modèle photorésist est un outil puissant pour créer des motifs complexes et précis sur les matériaux de substrat. Il est optimisé pour la précision, l'efficacité et la fiabilité, et il est bien adapté pour ceux qui cherchent à accomplir une variété de tâches dans l'industrie de la lithographie microélectronique.