Occasion OPTORUN OTFC-1300DBI #9358481 à vendre en France

OPTORUN OTFC-1300DBI
Fabricant
OPTORUN
Modèle
OTFC-1300DBI
ID: 9358481
Optical thin film coater.
OPTORUN OTFC-1300DBI est un équipement de photorésistance de pointe développé par OPTORUN pour la modélisation de précision des substrats dans la production de divers composants électroniques. Il convient à la fabrication de dispositifs utilisant des procédés lithographiques classiques et avancés. Ce système est équipé d'une tête optique dédiée et supporte les dimensions des zones d'exposition de 30 x 40cm à 50 x 100cm. Le laser excimère permet une exposition finement ajustée et permet diverses fonctionnalités telles qu'une unité de mise au point adaptative, 6 modes lithographiques, des doses variables et un balayage haute fréquence. Cette combinaison de caractéristiques permet de modeler avec précision des structures complexes de manière rentable. OTFC-1300DBI dispose d'une machine d'alignement optique et d'un ensemble d'étages linéaires avancés capables d'atteindre des résolutions très élevées. Son optique est optimisée par une méthode de déphasage continu pour minimiser les effets de diffraction. Il est également compatible avec différents substrats dont le verre, le quartz et les matériaux semi-conducteurs. L'outil utilise les technologies lithographiques les plus récentes, comme l'imagerie visible haute résolution (HRV), une fonctionnalité avancée qui fournit une capacité d'imagerie améliorée pour la production de petites fonctionnalités. L'actif dispose également d'un modèle d'alignement Pattern-On-Pattern (POP), qui permet un alignement précis de plusieurs couches de motifs. L'équipement POP est capable de gérer des exigences de haute résolution, et convient à la production de structures microélectroniques de haute précision. OPTORUN OTFC-1300DBI est compatible avec divers procédés de couche et de gravure et est capable de produire des feuilles de taille de plaquette ainsi que de petites pièces. Ses différentes fonctionnalités se combinent pour fournir aux utilisateurs un système de photolithographie de haute précision, reproductibilité et débit. Il convient à la production de divers appareils électroniques, tels que capteurs, circuits intégrés, LCD, OLED et MEMS.
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