Occasion OPTORUN OTFC-1300DBI #9398672 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9398672
Style Vintage: 2008
Optical thin film coater
SUS304 Vacuum chamber: D 1300 mm x H 1610 mm
Substrate dome size: D1130 mm
Pump:
Mechanical pump: 4000L /min
Mechanical booster pump
(2) Diffusion pumps, 22"
Optical film thickness control system:
OPTORUN HOM2-R-VIS350A
Wavelength range: 350 nm - 1100 nm
Shutters:
(2) EB Sources
ION Source
Cold trap: POLYCOLD PFC670HC Meissner trap coil
INFICON VGC023 Vacuum gage
EB Source:
Left: Loop hearth
Right: 24 Points hearth
JEOL 270 Degrees deflection system
(2) JEBG EBG-203LFO
JST-10F Power supply
Substrate fixture: 10-50 RPM Variable speed dome
INFICON XTC-2 Crystal film thickness monitor
6-Points rotary crystal sensor
INFICON VCC500 Process gasses controller
INFICON VDM005-X Controlled valve
PLC Control
PC Included
2008 vintage.
L'équipement de photorésistance OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI est un système de photochimie polyvalent conçu pour des applications telles que la gravure, la pulvérisation et le dépôt de couches. Il permet une exposition précise et simultanée jusqu'à quatre masques sans sacrifier le débit. Doté d'un moteur de lumière flexible et de nombreuses options de processus, cet appareil photorésist offre une exposition précise avec uniformité et répétabilité. La photorésistance OPTO-RUN OTFC-1300DBI se compose d'une chambre d'exposition, d'un moteur léger et d'un contrôleur. La chambre d'exposition utilise un outil multicavité qui peut abriter jusqu'à quatre masques simultanément. Le moteur de lumière est construit à partir d'un anneau de lampes fluorescentes disposées autour des masques, fournissant une lumière UV de haute intensité sur demande. Cette source lumineuse conçue est réglable, ce qui permet de régler la dose, le temps d'exposition et la puissance d'exposition indépendamment pour chaque masque. Outre la chambre d'exposition et le moteur de lumière, l'actif photorésist OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI comprend également un contrôleur numérique précis. Cela permet à l'utilisateur de personnaliser les paramètres d'exposition du modèle, et permet un contrôle précis des paramètres d'exposition. De plus, le contrôleur dispose d'une interface opto-électronique puissante qui permet à l'utilisateur de contrôler l'ensemble de l'équipement depuis un ordinateur externe. Le système photorésist OPTO-RUN OTFC-1300DBI est idéal pour de nombreux types de production de microélectroniques, y compris les circuits intégrés (IC), les écrans plats et les cartes de circuits imprimés. Ses capacités d'exposition précises le rendent particulièrement adapté aux applications avancées de semi-conducteurs, comme la fabrication de paquets de puces à flip et de dispositifs MEMS hétérogènes. Sa flexibilité et son interface facile à utiliser en font un choix attrayant pour le contrôle de la qualité et les opérations générales en salle blanche. En résumé, la photorésist OPTO-RUN OPTORUN OTFC-1300DBI offre une solution très efficace pour une exposition précise des photorésistants dans la production de microélectroniques. C'est une solution polyvalente qui peut être facilement adaptée à n'importe quel environnement de production, et son contrôle numérique précis en fait un outil inestimable pour le contrôle de la qualité et les applications spécialisées.
Il n'y a pas encore de critiques