Occasion OPTORUN OTFC-1550 #9390009 à vendre en France

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Fabricant
OPTORUN
Modèle
OTFC-1550
ID: 9390009
Optical thin film coaters 2017-2018 vintage.
OPTORUN OTFC-1550 est un équipement de traitement de film photorésist entièrement automatisé composé d'une chambre de revêtement et de développement de substrat, d'une pompe à viscosité et d'un distributeur de photorésistance. OPTORUN OTFC 1550 offre un mode de traitement fiable et reproductible des substrats photomasques dont la taille varie de 200 mm x 200 mm à 500 mm x 500 mm. Ce système est composé d'un ensemble de chambres, avec une chambre dédiée pour chaque étape de procédé, incluant le revêtement et le développement de substrat, pré-cuisson, distribution, post-cuisson, et enfin, une chambre de retrait de la résistance photo. OTFC-1550 commence par une chambre de revêtement automatisée du substrat où la résine photosensible est appliquée dans une épaisseur de film uniforme sur le substrat. Cette chambre a également la capacité de réaliser des procédés de pré-cuisson, assurant une adhésion uniforme du film de base. La fonction de distribution est utilisée pour s'assurer que le motif photomasque est distribué avec précision sur le substrat à l'épaisseur désirée. Ceci est réalisé par l'intermédiaire d'un distributeur de résistance photo avancé qui est intégré à l'unité. Les processus post-cuisson tels que l'exposition et le développement sont effectués dans la chambre de développement intégrée. Cette chambre permet d'assurer un profil de film uniforme et globalement résistant. Enfin, la chambre de photorésistance (PRR) est utilisée pour éliminer la photorésist indésirable du substrat. Ceci est rendu possible grâce à une technologie avancée assistée par vide qui a été conçue pour assurer des résultats RRP uniformes. Dans l'ensemble, la photorésist OTFC 1550 offre une solution de traitement de substrat fiable et répétable. Il est capable de traiter des substrats photomasques dont la taille varie de 200 mm x 200 mm à 500 mm x 500 mm. De plus, ses processus intégrés pré-cuisson, distribution, post-cuisson et PRR permettent des résultats précis et uniformes de traitement des films photorésistants.
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