Occasion OPTORUN OTFC-2350 #293610735 à vendre en France

OPTORUN OTFC-2350 est un équipement de photorésistance conçu pour la technologie de traitement par voie humide. Il est doté d'un design hautement automatisé et performant, avec des capacités de revêtement robustes pour tous les types d'applications photorésistantes. Le système comprend une unité de bain autonome de 14 zones avec température, agitation et pression réglables. Cette configuration maximise l'efficacité des dépôts de photorésist et protège les photorésist coûteux des contaminants externes. La compatibilité de la machine avec plusieurs formules photorésistantes élimine la nécessité d'un post-traitement manuel. Le réservoir de traitement humide double couche offre une grande capacité pour le déplacement des solutions de procédé à travers le bain complet. L'outil d'agitation assure un dépôt photorésist homogène de part et d'autre du substrat et la pompe de recirculation intégrée réduit la consommation d'eau tout en assurant la dispersion uniforme des photorésistes. Les contrôles automatisés de l'actif permettent aux utilisateurs de programmer les paramètres du bain et de traiter les recettes peu importe l'application. De plus, les dispositifs de contrôle industriels intégrés garantissent un renforcement atomisé et un fonctionnement robuste grâce à l'utilisation de normes industrielles. La capacité d'autosurveillance du modèle et les diagnostics numériques aident les utilisateurs à dépanner rapidement et avec précision. OTFC-2350 offre une construction durable et est conçu pour résister à une utilisation et une usure répétées. Le boîtier est scellé pour minimiser le déversement tandis que la peinture pelliculée assure une protection contre la corrosion et le cadre en acier inoxydable assure la durabilité. Les coûts de puissance et de cycle de vie sont minimisés en incorporant des composants efficaces et un lecteur à fréquence variable. L'équipement photorésist offre un maximum d'efficacité, de flexibilité de procédé et de fiabilité pour le traitement des photorésistances. Il est adapté à un large éventail d'applications, de la fabrication de circuits intégrés à grande échelle (LSIC) aux procédés post-développés. En tant que tel, c'est un choix idéal pour les entreprises qui nécessitent des systèmes photorésistants haute performance.