Occasion OPTORUN OTFG-1000C #9359460 à vendre en France

OPTORUN OTFG-1000C est un équipement de haute précision conçu pour une utilisation dans une grande variété de procédés et d'applications. La conception et les caractéristiques avancées de l'unité offrent aux utilisateurs une solution fiable et économique pour la photolithographie, avec un degré élevé de précision et de répétabilité. OTFG-1000C dispose d'un grand champ de vision qui peut accueillir jusqu'à 1 000 mm par 1 000 mm cadres. Le cadre est monté sur une plate-forme linéaire d'axe de coordonnées pour fournir un alignement et un positionnement précis pour l'orientation du cadre et le placement des pièces. En outre, l'unité dispose d'un guide de vision intégré pour la cartographie précise des niveaux, ainsi que d'une option zéro-toolchange pour la commutation rapide entre les sujets. Le système optique avancé OPTORUN OTFG-1000C assure une performance optimale des photomasques avec une large gamme de films, de résistances, d'options de développement et de matériaux de masquage. La source de rayonnement optique de l'unité est équipée d'une puissante machine à vide motorisée, qui évite la contamination particulaire de la voie d'éclairage et assure ainsi une qualité d'image optimale. L'outil contient également plusieurs modes d'imagerie pour différents types de résistances. En outre, OTFG-1000C permet aux utilisateurs de choisir parmi une variété de réglages de cuisson à chaud et à froid en fonction du résultat souhaité. La cuisson à chaud est utilisée pour augmenter la résistance à l'adhérence et améliorer la durée de conservation de l'image produite, tandis que la cuisson à froid est idéale pour les applications à pâte molle pour les substrats souples ou semi-rigides. La commande de mouvement intégrée assure une précision de positionnement de l'ordre de ± 2 μ m, une précision fixe d'alignement zéro de 1 μ m et une exposition radiante de précision inférieure à un dixième de micron. Le dispositif compense automatiquement les variations d'épaisseur du film ou du substrat et fournit un éclairage précis et un contrôle temporel pour un rendu photorésistant cohérent. Dans l'ensemble, OPTORUN OTFG-1000C est un dispositif de procédé photorésist avancé offrant précision et convivialité pour une grande variété d'applications. Sa grande tolérance aux épaisseurs de matériaux minuscules et ses technologies intégrées d'imagerie et de contrôle de mouvement en font un choix idéal pour les procédés lithographiques dans une variété d'industries.