Occasion OPTOTECH OAC 25 #293777691 à vendre en France

OPTOTECH OAC 25 est un équipement de photorésistance de précision conçu pour l'imagerie réfléchissante, la lithographie, l'écriture directe, la lithographie sans masque et d'autres applications dans l'industrie optique. Avec sa conception optique avancée, OAC 25 offre une qualité d'image supérieure et un débit amélioré. Le système photorésist OPTOTECH OAC 25 utilise un réseau de miroirs à cristaux liquides flexibles pour obtenir une exposition très uniforme. L'exposition se fait par des impulsions lumineuses d'un laser de choix, qui peuvent être choisies pour correspondre aux propriétés optiques de la conception. La lumière laser est dirigée vers le réseau de miroirs à cristaux liquides qui contrôle précisément la puissance optique focalisée sur le substrat. Le réseau de miroirs facilite également l'interposition de diaphragmes de précision pour contrôler précisément l'uniformité de l'exposition sur l'ensemble du substrat. La flexibilité du réseau de miroirs, l'emplacement du diaphragme et les impulsions laser-lumière offrent une résolution et une fidélité grandement améliorées. Les résultats sont compatibles avec des résolutions allant jusqu'à 140 nanomètres en espacement. Le CAO 25 élimine également la nécessité d'un masque en écriture directe dans les applications de lithographie sans masque. OPTOTECH OAC 25 est équipé d'un agrandisseur et d'un pellicule associés à un dispositif sensible à simple puce couplé à une micro-lentille spéciale pour l'imagerie stable. La caméra est montée sur le même axe optique que la lumière laser pour faciliter l'imagerie. La caméra est en contact permanent avec la résine photosensible, ce qui donne des images haute définition de toutes les lignes d'exposition. Le CAO 25 est conçu pour la productivité et l'intégrité des données. Ses moteurs intégrés sont utilisés pour entraîner le réseau de miroir à cristaux liquides avec précision, tandis que l'échelle Vernier maintient la précision pendant l'exposition. L'unité est également équipée de boucles de rétroaction pour la surveillance de la focalisation et de l'exposition. OPTOTECH OAC 25 est conçu pour répondre à diverses exigences de lithographie. Il aide à réduire à la fois le temps d'installation et le temps de lithographie, tout en accordant des résultats esthétiques améliorés. OAC 25 est une machine de photorésistance robuste, fiable et flexible permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats fiables et de haute qualité.