Occasion OWENS DESIGN Gen 2 #9234061 à vendre en France

OWENS DESIGN Gen 2 matériel de photorésistance est un système économique et avancé conçu pour l'équipement et les processus du processus de photolithographie automatisée. C'est une unité de photolithographie avancée qui est conçue avec les dernières avancées technologiques. La machine se compose d'un outil multi-axes de haute précision, d'un atout de projection numérique, d'outils logiciels puissants et d'un projecteur haute résolution. Ce modèle offre des images haute résolution et répétabilité, une précision supérieure, et une interface utilisateur intuitive. L'équipement multi-axes utilise des codeurs linéaires et angulaires avancés pour fournir un positionnement et un contrôle de mouvement précis. Cela permet au système de déplacer avec précision le masque, la plaquette et le projecteur ensemble ou indépendamment dans l'espace tridimensionnel de l'unité. La machine de projection numérique est utilisée pour transférer le motif photolithographique sur le masque ou la plaquette. Le projecteur est capable de fournir des images vives avec une résolution allant jusqu'à 2560 x 1920 pixels. Il dispose d'un outil optique à trois lentilles qui fournit un éclairage de haute intensité et élimine les motifs moirés sur le masque ou la plaquette. Les puissants outils logiciels sont faciles à utiliser et offrent un contrôle total sur les paramètres de l'actif. Ces outils comprennent des outils d'alignement pour aligner et focaliser avec précision le masque ou la plaquette. En outre, ils comprennent une gamme d'autres fonctions telles que la vectorisation, l'entrée de données de compensation, la photolithographie complexe, et plus encore. Le modèle photorésist Gen 2 est conçu pour une modélisation rapide, efficace et précise. L'équipement offre une qualité, une précision et une répétabilité inégalées. Il est conçu pour des processus flexibles et automatisés et fournit une solution rentable pour la production et le prototypage.