Occasion OWENS DESIGN Gen 2 #9234063 à vendre en France

OWENS DESIGN Gen 2 est un équipement de photorésistance numérique spécialement conçu pour transformer les procédés de masquage traditionnels sur le marché de la fabrication de semi-conducteurs. Ce système est l'un des procédés photorésistants les plus avancés disponibles, basé sur une technologie de lithographie multicouche qui permet de contrôler le photomasking au niveau des plaquettes. Il est idéal pour créer des motifs précis avec des résolutions inférieures à 10 nanomètres sur des circuits très petits ou complexes. Le bloc photorésist repose sur l'effet optique de la photomodification d'un matériau photosensible composite sur une surface spécifique. Ce matériau photosensible est une couche de produits chimiques, qui comprend un agent sensible à la lumière et un révélateur. Lorsqu'il est exposé à la lumière à partir d'une longueur d'onde spécifique, l'agent sensible à la lumière change tandis que le développeur reste inchangé. Un masque précis avec un motif de découpe laser est placé sur une plaquette et une exposition d'une longueur d'onde spécifique est utilisée pour exposer le matériau photosensible. Après exposition, la plaquette est traitée avec un produit chimique développeur qui modifie le matériau photosensible exposé, créant un motif précis. Gen 2 photorésist machine est très fiable et prévisible et fonctionne avec une variété de processus de lithographie. Il offre une variété de fonctionnalités personnalisables, y compris des bibliothèques de masques complètes, une programmation d'opérateur facile, une table de masques multi-positionnelle, des étages automatiques indexables de plateaux de plaquettes, des contrôles programmables de temps d'exposition, et une bibliothèque accessible de recettes de masques. OWENS DESIGN Gen 2 dispose également d'un système de dédicace laser automatique qui peut être utilisé pour séparer plusieurs plaquettes en morceaux plus petits pour un traitement ultérieur. De plus, dans le cadre de ses fonctions de diagnostic de pointe, l'outil dispose d'un atout d'alignement automatisé et d'une fonction de contrôle de focalisation adaptative pour garantir l'exactitude et les résultats de processus reproductibles. En conclusion, le modèle photorésist Gen 2 est un outil puissant pour des applications de lithographie fiables, précises et de niveau wafer. Il fournit des motifs précis pour améliorer le rendement et le temps de production, et réduit considérablement le coût par plaquette grâce à ses fonctionnalités programmables.