Occasion PHILIPS / FEI Magellan 400L #293597808 à vendre en France
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Vendu
ID: 293597808
Style Vintage: 2012
Field Emission Scanning Electron Microscope (FE-SEM)
EDWARDS nXDS10i Vacuum pump
THERMO FISHER SCIENTIFIC NORAN System 7 EDS System
KEITHLEY 6485 Eletronic measuring instrument
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT ACC Box
DELL PC For EDS
APCO SIP (2) Ion pump power supply
JUN-AIR 1445100 Air compressor
Electrical unit
HRS-012-A-20 Chiller
PBF Power supply
Vibration isolation table
Pump cover
(10) ACC Parts
Crane ACC
Work desk
5-Axis high precision stage, 4"
In-lens / Out lens detector
VCD Detector
NORAN EDS System (UltraDry SDD Detector)
Beam deceleration: 50 V - 30 kV
ELSTAR Electron gun: 0.8 nm at 15 kV / 0.9 nm at 1 kV
2012 vintage.
PHILIPS/FEI Magellan 400L est un équipement de photorésistance spécialement conçu pour le traitement à haute résolution des dispositifs microélectroniques. C'est un système avancé et convivial qui est capable de produire des motifs de haute fidélité sur une variété de substrats. L'unité utilise une caméra 4K ultra haute résolution qui est précisément capable de modeler des résistances de faisceau d'électrons sur des surfaces telles que la plaquette et le masque. Le faisceau d'électrons photographie des points individuels de pixel puis les intègre à une taille et une forme définies. Une projection par étapes précise harmonise les expositions pour s'assurer que la zone de couverture souhaitée est atteinte avec précision. La machine FEI Magellan 400L est intégrée à une série de fonctionnalités matérielles et logicielles avancées, telles qu'un outil de calibration automatique qui peut déterminer le courant de faisceau optimal, le temps d'exposition et les paramètres de résolution pour la meilleure résolution de motif possible. Il est également équipé d'un logiciel sophistiqué pour la lithographie UV et la lithographie par faisceau d'électrons. Le panneau de commande du modèle offre un accès facile à une variété de paramètres, y compris la vitesse du faisceau, la plage de focalisation, l'accélération et la décélération, la position de focalisation, l'inclinaison avant et arrière, et la linéarité vectorielle. Sa haute résolution le rend également adapté aux processus inverses tels que le décollage et le revêtement PR. L'équipement contient également un certain nombre de dispositifs de sécurité qui comprennent une poutre de sécurité réglable et des dispositifs d'arrêt d'urgence. Sa structure robuste et fiable permet à l'utilisateur de le maintenir immobile et de maintenir une plate-forme stable. La stabilité aux vibrations du système, sa résolution, sa faible contamination par les particules et son utilisation sans ombre en font un choix attrayant pour ceux qui recherchent une unité de résistance fiable et précise.
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