Occasion PURE AIRE UF72AE #9303096 à vendre en France

L'équipement de photorésistance PURE AIRE UF72AE est une solution avancée et économique pour contrôler le dépôt de matière et assurer la reproductibilité du transfert de motifs. Dans le processus de photorésist, l'exposition aux UV des résines est utilisée pour définir des fenêtres de gravure et créer des motifs de circuit au sein d'une plaquette semi-conductrice. UF72AE est un système photorésist polyvalent, qui offre une précision et une flexibilité remarquables. PURE AIRE UF72AE est capable de manipuler des plaquettes jusqu'à 200mm avec une exposition unique et une distorsion minimale. Ceci est grâce à deux taches de faisceau qui sont espacées et ajustées en temps réel pour une mise au point optimale. En outre, UF72AE est conçu avec une unité d'éclairage avancée qui assure une distribution uniforme de la lumière UV avec une conservation maximale de l'énergie. Cela aide à réduire les coûts avant le processus d'exposition, ainsi que toujours fournir des résultats de haute qualité. Afin de maintenir sa précision, PURE AIRE UF72AE dispose de la dernière technologie de contrôle numérique pour les réglages reproductibles. Les composants optiques de micro-précision de UF72AE garantissent que la machine maintiendra sa précision de focalisation sur différentes tailles de plaquettes. Ceci est encore renforcé par de multiples filtres, qui assurent que le transfert de motif reste reproductible quelles que soient les variations d'épaisseur du substrat. En outre, PURE AIRE UF72AE est compatible avec tous les matériaux photorésistants standard. Cela permet de le mettre en place rapidement pour différents types d'emplois et d'accueillir tout type de substrat. De plus, son outil d'exposition breveté Auto-Uniform permet de réaliser plusieurs tâches sans aucun ajustement manuel. Tout cela grâce à ses capteurs intégrés, qui réajustent constamment les paramètres d'exposition pour un débit optimal. En conclusion, UF72AE est un actif photorésist avancé et rentable. Sa capacité à graver avec précision les motifs et à maintenir une focalisation optimale sur plusieurs tailles de substrat en fait la solution idéale pour tout processus photorésist. Sa technologie de contrôle numérique, sa compatibilité flexible et son modèle d'exposition auto-uniforme garantissent que le transfert de motifs est reproductible et précis. Cela garantit que PURE AIRE UF72AE restera un choix fiable et économique pour toutes les applications photorésistantes.