Occasion PVA 2000 THK #9182149 à vendre en France

PVA 2000 THK est un équipement photorésistant positif et sensible aux UV de THK, un fournisseur leader de traitements photomasques et lithographiques de haute précision pour l'industrie électronique. 2000 Le système THK est un matériau à base liquide à deux composants utilisé dans les processus de photolithographie pour la formation de motifs de circuits sur des photomasques, des plaquettes et d'autres dispositifs. L'unité est constituée d'un substrat de film PVA plastifié associé à une couche de polymère protecteur appliquée sur le matériau photorésistant exposé. La machine PVA 2000 offre une excellente résolution et une excellente définition des caractéristiques, permettant aux fabricants de composants électroniques de produire des produits de haute qualité et à haut rendement. PVA 2000 THK a une résistance à la flexion de 3-5 N/m2 et une résistance à la traction de 12-17 N/m2, le rendant très résistant aux contraintes mécaniques lors de la fabrication. Les étapes de lithographie au niveau des photomaskes et des plaquettes sont effectuées dans des environnements inertes et sans oxygène et utilisent la lumière ultraviolette à quartz pour les processus d'exposition et de post-exposition. Le matériau photorésist est formulé pour être résistant aux agents acides, basiques et autres agents chimiques, assurant une réplication précise et précise des caractéristiques. 2000 L'outil THK est bien adapté à la fabrication de circuits intégrés à grande échelle et de haute précision, de puces à mémoire et d'autres dispositifs semi-conducteurs. Il est également utilisé pour les capteurs MEMS, les structures nanométriques et les conceptions optiques en raison de son mélange unique de haute résolution et de caractéristiques de définition. PVA 2000 THK est adapté à de nombreuses techniques de lithographie, y compris les systèmes de contact, les systèmes de balayage, les systèmes de proximité et les systèmes de projection. Il présente une faible topographie, une stabilité à long terme et est applicable à un large éventail de processus de conception et de fabrication d'appareils. 2000 THK modèle est conçu pour être utilisé dans les laboratoires et les lignes de production, fournissant des performances cohérentes avec la cohérence de processus haut de gamme. Il est compatible avec divers types de photomasques et de procédés de wafer, y compris le parage local, les transferts de moteurs pas à pas, la planarisation chimico-mécanique et le contrôle d'épaisseur. De plus, THK propose une large gamme d'accessoires d'équipement PVA 2000 THK, tels que des spinners, des décapants, des fours, des pantalons de résistance et des outils de gravure, pour aider à obtenir des résultats optimaux avec une contamination minimale.