Occasion PVA 2000 #9293852 à vendre en France

PVA 2000 est un équipement de photorésistance spécialement conçu pour les applications de photolithographie à haut débit. Il s'agit d'un système photorésist amélioré offrant une alternative plus fiable et cohérente aux matériaux photorésistants classiques. Le procédé de photolithographie de 2000 implique l'utilisation de matériaux photorésistants pour le transfert de motifs sur un substrat. La résine photosensible est ensuite utilisée pour créer un motif de micro-caractéristiques sur le substrat. PVA 2000 contient des additifs exclusifs conçus pour promouvoir la stabilité chimique et réduire les risques de défaillance des photorésistants. Il améliore également l'efficacité du processus de photolithographie en éliminant les résidus qui pourraient nuire à la précision de la formation des motifs. La formulation robuste de l'unité offre également de plus grandes couches de protection et améliore le processus global. 2000 a été formulée pour fournir une excellente résolution des micro-caractéristiques. Il est bien adapté à une variété de substrats dont des métaux, des polymères et des semi-conducteurs. Elle est particulièrement intéressante dans la lithographie de très petites caractéristiques, telles que celles nécessaires en microélectronique. La photorésist a également un faible taux de dissolution (photo), permettant une lithographie fiable des caractéristiques avec de petites largeurs. En termes de débit, PVA 2000 est conçu pour fournir un processus cohérent et répétable, avec un débit amélioré allant jusqu'à 3X par rapport à d'autres systèmes photorésistants. Cette productivité accrue permet d'achever le processus en moitié de temps, ce qui le rend plus rapide et plus efficace. 2000 machine est également conçu avec des exigences de sécurité et d'environnement en tête. Il est produit par des procédés écologiquement rationnels et contient de faibles COV et aucun HAP. En outre, l'outil est très compatible avec les procédures de sécurité actuelles pour la photolithographie, ce qui en fait un choix idéal dans des environnements plus sensibles. Dans l'ensemble, PVA 2000 photoresist actif offre un outil fiable et précis pour la lithographie. Il offre une meilleure répétabilité des processus, des débits plus élevés, une meilleure sécurité environnementale et une meilleure résolution des micro-caractéristiques. Cela en fait un choix idéal pour le transfert de motifs précis et la fabrication de micro-fonctionnalités.