Occasion PVA 6000 #9222892 à vendre en France

PVA 6000 est un équipement photorésist développé par Canon qui est utilisé pour créer des fonctionnalités avec une résolution extrêmement fine. Conçu pour être utilisé sur des plaquettes semi-conductrices, il est le photorésist le plus avancé développé par Canon dans sa gamme ultra-précise de produits de résistance. Les principales caractéristiques de 6000 sont son imagerie HDR High-NA, l'unité d'exposition compacte, et le système propriétaire Canon ARTechnerG. La technologie d'imagerie High-NA HDR (High Numerical Aperture High Depth Resolution) assure la production de caractéristiques extrêmement fines avec une cohérence supérieure en spin-coating, imagerie et gravure. L'unité d'exposition compacte permet d'excellentes performances en salle blanche et des temps d'exposition plus courts. L'unité ARTechncentreG génère une grande variété de motifs complexes grâce à des formes d'exposition facilement prédéfinies contrôlées par une interface simple. La machine combine la résolution native de l'unité d'exposition Canon et de l'outil de photorésistance avec une capacité de sous-modélisation de 40 nanomètres. PVA 6000 permet une grande flexibilité lors de la fabrication de photomasques. Avec la capacité de contrôler la zone d'exposition à des niveaux de sous-résolution, il est possible de créer des modèles à grande échelle avec un degré élevé de précision, et des modèles denses avec une résolution extrêmement élevée. L'actif fournit également à l'utilisateur un large éventail de paramètres d'exposition qui peuvent être adaptés à une grande variété de conditions et de matériaux. 6000 va également plus loin avec sa fonction d'identification entièrement automatisée des rejets. Cette fonction peut détecter les motifs défectueux et les rejeter automatiquement, réduisant les erreurs et améliorant les rendements de fabrication. Dans l'ensemble, PVA 6000 est un modèle photorésist remarquable. Sa liste impressionnante de caractéristiques, combinée à la réputation de qualité de Canon de longue date, en font un excellent choix pour la production de caractéristiques de plaquettes semi-conductrices.