Occasion PVA Delta 8 #293623207 à vendre en France

Fabricant
PVA
Modèle
Delta 8
ID: 293623207
Style Vintage: 2018
Conformal coating machine Hose: SSMPC / TEFLON Flux material: Rosin-based (4) Motion axes: X, Y, Z (Top), and Z (Bottom) (4) Controller axes Spare valves Controller: 4000 X-Stroke: 621 mm Ballscrew lead: 10mm/rev Y-Stroke: 595 mm Ballscrew lead: 10mm/rev (2) Z-Strokes: 90 mm Ballscrew lead: 1mm/rev Heads 1 and 2: Top and bottom valve Z-Slide FCS300-F Valve Atom air range: 0-15 PSI SMC KALREZ O-Ring Liner pressure vessel (2 Gal) Air requirement: 80-100 PSI Dry CFM: <10 KALREZ O-Ring Guarding: Interlock doors Bellows: Metal side gap panel Light tower Process control: Low level PC OIT Portal White light Ventilation: Minimum CFM: 600 PVA Blower Exhaust switch Flange diameter, 6" Blower exit diameter, 6" Upper side panel Syringe supply: (2) 30cc Air caps 0-60 PSI regulator with digital pressure switches Power supply: 120, 208-230 VAC, 3 Phase, 60 Hz, 15 A 2018 vintage.
PVA Delta 8 est un équipement de photorésistance qui est utilisé dans les processus de photolithographie pour l'imagerie de dispositifs semi-conducteurs et d'autres structures microélectroniques. Ce système de photorésist est composé d'une couche de matériau polymère dite polyvinylalcool (PVA) qui agit comme agent de masquage entre le dispositif et le film de photorésist. L'unité de photorésistance Delta 8 a une sensibilité extrêmement élevée à la lumière UV et est capable de résoudre des tailles de fonctionnalité jusqu'à 8 microns. Il est particulièrement utile pour les appareils et les structures microélectroniques qui nécessitent des tailles de fonctionnalités extrêmement petites et des images haute résolution. La photorésist PVA Delta 8 est composée de 4 composants : une photorésist, un matériau de base, un matériau résistant à la gravure et un film polymère. La couche de résine photosensible est modélisée à l'aide de la lumière UV et sert de couche d'imagerie. Il expose sélectivement une zone structurée qui est développée pour créer une image des caractéristiques souhaitées. La couche de base est un matériau qui sert de support à la couche de résine photosensible et assure la stabilité nécessaire pour assurer la précision du processus d'imagerie. Le matériau résistant à la gravure protège les caractéristiques lors de la gravure et peut être conçu pour couvrir une grande variété de matériaux. Enfin, le film polymère est une couche souple qui scelle le processus d'imagerie et protège les structures. L'outil de photorésistance Delta 8 est adapté aux dispositifs numériques à micromiroirs (DMD) et à d'autres appareils nécessitant une très haute résolution. L'actif peut être utilisé pour des appareils tels que des écrans, des capteurs microfluidiques et d'autres MEMS. Le modèle photorésist PVA Delta 8 est un outil essentiel pour les processus microélectroniques. Sa sensibilité et sa résolution élevées permettent l'imagerie d'appareils et de structures extrêmement petits avec une imagerie précise et durable. Cet équipement peut être utilisé pour une grande variété de processus et de matériaux, assurant que les exigences les plus exigeantes sont respectées.
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